판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 3T #9280959

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 3T는 광학 검사 기술을 활용하여 가능한 장치 결함을 식별하는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 광학 레티클, 마스크, 웨이퍼 등 다양한 마스크 패턴을 검사할 수 있으며, 메모리 요소 누락, 양면 패턴 결함, 잘못된 정렬 (misalignment) 또는 방향 관련 결함, 비표준 (off-standard) 패턴 결함 등의 결함을 감지할 수 있습니다. AMAT Complus 3T 장치는 별도의 객체와 배경 사이에 대칭을 생성하는 특수 진폭 변조 기술 (Technology of amplitude modulation) 을 기반으로합니다. 진폭 변조 (Amplitude Modulation) 기술은 매우 민감하여 기계가 중복 객체와 해당 결함 사이의 미세한 차이를 정확하게 식별 할 수 있습니다. 이 도구는 집중 이온 빔 (focused ion beam) 을 사용하여 에셋이 모든 불일치에 대해 객체를 비교할 수있는 좁은 선 추적 (line trace) 을 그립니다. 고급 광학 검사 모델에는 결함을 식별하기 위한 고급 알고리즘이 장착되어 있습니다. 이러한 알고리즘에는 이미지 캡처 및 처리, 이미지 비교, 결함 분류 등이 포함됩니다. 이미지 캡처 및 처리 알고리즘은 CCD 기술을 사용하여 객체의 알맞은 해상도 이미지를 캡처하고 저장합니다. 비교 알고리즘은 디지털 프로세싱 (digital processing) 을 사용하여 이러한 이미지를 비교하고 객체의 정확도에 대한 정량적 평가를 제공합니다. 마지막으로, 결함 분류 알고리즘은 이러한 이미지를 특정 개체가 결함이 있는지 여부를 설정하기 위해 이전에 정의한 일련의 매개변수 (예: 사양, 공차) 에 대해 상호 참조합니다. APPLIED MATERIALS Complus 3T 장비에는 고급 (advanced) 하드웨어 구성 요소가 장착되어 있습니다. 이러한 구성 요소에는 스캐닝 전자 현미경 단계 (scanning electron microscope stage), 웨이퍼 단계 (wafer stage) 및 시스템 작동을위한 다양한 중요한 구성 요소가 포함됩니다. 스캐닝 전자 현미경 (Scanning Electron Microscope) 단계에는 웨이퍼의 고해상도 이미지를 캡처하는 기능이 탑재되어 있는데, 이를 통해 마스크와 웨이퍼의 여러 영역을 동시에 검사할 수 있습니다. 웨이퍼 스테이지 (wafer stage) 를 사용하면 웨이퍼의 이동이 가능하므로 전체 오브젝트를 이동하지 않고도 필요에 따라 오브젝트의 세그먼트를 검사할 수 있습니다. 고급 장비와 함께, Complus 3T 장치에는 소프트웨어 제어, 사용자 친화적 번역 및 전송 인터페이스가 함께 제공됩니다. 이러한 인터페이스를 통해 모든 언어로 이미지 캡처 (image capture) 와 비교 (comparse) 를 수행할 수 있으므로 다양한 고객에게 서비스를 제공할 수 있습니다. 또한, 이 소프트웨어는 사용자 친화적인 3D 그래픽 인터페이스를 통해 신속하게 결함 인식 및 정확한 측정을 수행할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 3T 도구는 매우 효율적이고 비용 효율적이므로 마스크 및 웨이퍼 검사를 위한 완벽한 선택입니다. 고급 광학 검사 기술, 특수 알고리즘, 고급 하드웨어 구성 요소, 소프트웨어 프로그램, 사용자 친화적 인 번역 및 전송 인터페이스 등을 갖춘 AMAT 콤플러스 3T (AMAT Complus 3T) 는 품질 보장과 마스크 및 웨이퍼 구성 요소의 정확한 분석을 위한 이상적인 도구입니다.