판매용 중고 ADE / KLA / TENCOR AWIS 3110 #293816349

ADE / KLA / TENCOR AWIS 3110
ID: 293816349
Wafer inspection system.
ADE/KLA/TENCOR AWIS 3110은 반도체 제조에 사용하도록 설계된 자동 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. "마스크 '와" 웨이퍼' 를 반복 하고 신뢰 할 수 있는 검사 를 할 수 있으며, 반도체 제조업자 들 은 그 들 의 제조 공정 에서 잠재적 인 결함 을 신속 하고 신빙성 있게 식별 할 수 있다. 이 시스템은 6 축 로봇 암, 언더스캐닝 광학 유닛, 기판 지원을위한 500mm 스테이지, 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 의 기본 결함을 평가할 수있는 통계 샘플링 알고리즘으로 구성됩니다. 로봇 암 (robotic arm) 은 기판의 여러 영역에 대한 빠른 검사를 제공하기 위해 설계되었으며, 결함 위험이 있는 모든 지역의 적용 범위를 보장합니다. 밑줄 광학 머신은 낮은 수준의 결함을 감지 할 수있는 반면, 500mm 스테이지는 기판을 처리 할 수있는 충분한 공간을 제공합니다. 이 도구에는 다양한 이미지 데이터 분석 알고리즘이 있습니다. 이러한 알고리즘은 마스크 및 웨이퍼 (하위 미크론 크기) 를 포함하여 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 의 관련 피쳐를 자동으로 검색하는 데 사용할 수 있습니다. 이 자산은 또한 개선 된 표면 피쳐에 대한 에지 검출 (edge detection), 자동 선 너비 측정 (automatic line width measurements), 개선 된 명암비 검출을 위한 효율성 계산 (efficiency calculation) 등 다양한 검사 알고리즘을 전달할 수 있습니다. 마지막으로 ADE AWIS 3110에는 데이터 관리 기능도 포함되어 있습니다. 이렇게 하면 검사 결과를 저장할 수 있으며, 여러 실행에서 결과를 빠르고, 효과적으로 검토하고, 비교할 수 있습니다. 이는 검사 과정의 속도와 정확성을 향상시키는 데 도움이됩니다. 전반적으로 KLA AWIS 3110은 마스크 및 웨이퍼 검사에 효과적이고 신뢰할 수있는 모델입니다. 로보틱 암 이동 (robotic arm movement) 과 밑줄 광학 시스템 (underscanning optical system) 에서 이미지 데이터 분석 알고리즘 (image data analysis algorithms) 및 데이터 관리 기능에 이르기까지 다양한 기능을 제공합니다. 즉, 사용자가 기판의 기본 결함을 신속하고 정확하게 파악할 수 있으므로 반도체 제조 공정의 효율성, 신뢰성 향상에 도움이 됩니다 (영문).
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