판매용 중고 ZEISS CDC32 #9386127

ZEISS CDC32는 반도체 칩 제조에 주로 사용되는 고급 Mask Generation & Production 장비입니다. 이 제품은 정확한 패턴화 (patterning) 및 임계 오버레이 (critical overlay) 정확도를 제공하도록 설계되어 높은 수율로 고성능 장치를 생산할 수 있습니다. 이 기능에는 직접 패턴화를위한 파장 선택 가능한 레이저 소스, 고급 제작 및 마스킹 기술, 자동 장비 관리 및 프로세스 모니터링 (Automated Equipment Management and Process Monitoring) 이 포함됩니다. ZEISS CDC 32 시스템에는 세 가지 주요 구성 요소가 있습니다. 직접 쓰기 석판화 장치, 마스크 제작 및 도량형 기계, 기계 자동화 도구. 직접 쓰기 리소그래피 (direct-write lithography) 자산은 모델의 기초이며, 엑시머 펄스 레이저 (excimer pulsed laser) 기술을 사용하여 칩 웨이퍼를 병렬 아키텍처로 직접 패턴화합니다. 이 레이저가 허용하는 높은 에너지는 5 ~ 20nm의 정확도로 500nm 구조를 그릴 수 있습니다. 이 해상도는 매우 정확하여 최신 3D (3D) 프로세서 디자인과 함께 사용할 때 복잡한 메모리 아키텍처를 허용합니다. 마스크 제작 (mask making) 과 도량형 장비 (metrology equipment) 도 마찬가지로 중요합니다. 전체 사진 마스크의 도량형 이미지를 빠른 속도로 처리하는 최첨단 Optical Tomography (광학 단층 촬영) 모듈을 사용합니다. 그런 다음 이 모듈은 photomask (사진 마스크) 를 패턴화하고 측정하여 마스크가 설계에 맞는지 확인합니다. 설계가 검증되면, 시스템은 인쇄할 운영 스테이션으로 전송됩니다. 자동화된 장비 관리 장치 (Automated Equipment Management Unit) 는 전체 시스템이 최대 효율로 실행되고 설계 사양을 정확하게 준수하도록 합니다. 또한 일정한 간격으로 클리닝 도구를 자동으로 제어하고 도량형 기기, 마스크 메이킹 머신, 레이저 등의 주기적 보정을 예약합니다. CDC32 에셋은 최고 수준의 설계 및 패턴 (patterning) 정확도를 제공하여 복잡한 고성능 설계를 최대한의 정확도로 제작할 수 있습니다. 안정적이고 효율적인 Mask Generation & Production 모델을 찾는 칩 제조업체에게는 완벽한 선택입니다.