판매용 중고 TAMARACK 162D #9130935

TAMARACK 162D
제조사
TAMARACK
모델
162D
ID: 9130935
웨이퍼 크기: 6"
Double sided mask aligner, 6" Typically for hybrids Max intensity: 70 mj/cm² Resolution: 25-35 microns Inverted split field microscope (2) Power supplies: 1000 Watts (2) Lamps: 1000 Watts Does not include mask / Substrate holders.
TAMARACK 162D는 대용량 생산을 위해 설계된 MOCVD Mask Technologies의 종합 마스크 생성 및 생산 장비입니다. 광범위한 마스크 생성 기능을 갖춘 복잡한 전자 빔 리소그래피 (e-beam lithography) 응용 프로그램을위한 고급 디자인이 있습니다. 이 시스템은 정밀 모터 구동 XYZ 정렬 및 레이저 정렬 대상 점이 있는 고급 단계 & 반복 마스크 생성 단계 (advanced step & repeat mask-generating stage) 를 사용합니다. 따라서 각 단계에서 마스크가 정확하게 복제됩니다. 마스크 생성 소프트웨어를 사용하면 고급 해상도 기능이 있는 기능을 CAD 레벨에서 조작할 수 있습니다. 이렇게 하면 사용자가 마스크 설계를 위한 뛰어난 제어 능력과 정밀도를 얻을 수 있습니다. 이 소프트웨어는 또한 복잡한 라인 간격, 다중 레벨 기능 세부 사항 등과 같은 높은 수준의 복잡성 설계를 지원합니다. 이 기계는 처리량이 많은 프로세스를 사용하여 마스크 패턴의 가장 정밀도를 생성합니다. 여기에는 빠른 스캔 시간 (fast scan time) 및 고해상도 단계 (high-resolution stage) 와 같은 기능이 포함되어 있어 대규모 마스크 패턴화가 가능합니다. 여기에는 완전 자동 광 포지셔닝 장치 (optical positioning unit) 및 가변 단계 크기 (variable step size) 와 같은 기능이 포함됩니다. 이 기계는 레이저 스루 마스크 및 e- 빔을 포함한 광범위한 노출을 지원합니다. 따라서 가변 노출 시간 (Variable Exposure Time) 과 정밀도 (Accuracy) 를 유지하면서 최고 품질의 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 다양한 수준의 보호 환경을 제공하고 프로세스를 제어합니다. 마스크 생성 단계는 최대 12 레벨/자유도로 마스크를 지원하고 최소 선폭 5 미크론으로 0.25 미크론으로 정확한 피쳐 배치를 지원합니다. 마스크 생산의 경우, 다양한 백킹 및 기판 재료를 지원하며, 마스크 크기의 전체 스펙트럼을 갖습니다. 또한 여러 백사이드 기능을 지원합니다. 162D는 고속, 고해상도 및 대용량 생산을 위해 설계되었습니다. 마스크 생산 (mask production) 을 위한 경제적인 제조 솔루션으로, 마스크 생산 능력을 빠르게 늘리려는 기업에 이상적입니다. 고급 설계 (Advanced Design) 와 처리 (Processing) 기능을 통해 유연성과 제어 기능을 통해 마스크 설계에 대한 높은 수준의 정확성과 정확성을 달성해야 합니다.
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