판매용 중고 TAMARACK 161B #165720
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ID: 165720
Printed circuit board exposure system
Specifications:
Semi-automatic machine
Used to provide rapid and precise alignment of large PCB panels
Components:
Panel alignment / exposure station
Collimated illuminator
Pneumatic valves
Sequencer
Alignment / exposure station:
Provides the facilities for aligning the P.C.B. panel with respect to the artwork and providing vacuum contact for exposure
Mylar cover frame is hinged toward the rear of the machine to allow raising of the frame for changing the panel and artwork
Collimated illuminator:
Provides a condensed beam of ultra-violet light of uniform intensity for use in exposing the panel
Shutter within the illuminator opens for a preset interval to accomplish the exposure
(2) modes of exposure control are available to operate the shutter: constant time and constant energy
Constant time is set in on the exposure time in seconds
In the constant energy mode, exposure energy in millijoules per centimeter squared (mJ / cm) is set on the exposure energy thumbpot
Light source for the collimated illuminator: high pressure mercury arc lamp mounted in a forced air cooled housing
Housing is designed to contain and withstand lamp explosion
Lamp is positioned near the first focus of an ellipsoidal reflector
(3) Thumbscrews provide the means of moving the lamp along the X, Y, and Z axes in order to obtain the proper lamp position
Ellipsoidal reflector directs the reflected light toward a distant second focus thus avoiding the possibility of lamp damage due to reflection of energy onto critical parts of the lamp
Ultra-violet light from the ellipsoidal reflector is turned twice to reach a second focus located at the lenticular integrator
Dichroic mirrors which turn the ultra-violet light pass most visible light and infra-red energy which are thus dissipated as heat within the lamp house and exhausted out of the system
Lenticular integrator, located at the second focus of the ellipsoidal reflector, collects the ultra-violet energy and directs it toward the collimating mirror in such a manner as to approximate a point source of light
Mirror collimates the light from the integrator so as to form a beam of light exhibiting uniform intensity over its beam width
Shutter which controls panel exposure is located just ahead of the lenticular integrator
An associated panel switch provides the means of holding this shutter open for the purpose of lamp intensity and focus adjustments or placing it under the control of the digital timer or integrating exposure controller during panel exposure
Panel size: 19" x 25"
Pneumatic panel:
Located inside the machine above the side control panel
Panel supplies air pressure and vacuum to all air operated systems through the machine
Solenoid valves are operated on 24V DC and controlled from the sequencer and pushbuttons
Sequencer:
Control of the 161B is accomplished by a Mitsubishi programmable controller located on the pneumatic panel
Manual switch panel is also mounted on the pneumatic panel
Side control panel:
Used to start and stop all functions of the machine
Main power contactor enable
Lamp ignitor
Lamp exhaust temperature, alarm and lamp meter (resettable)
Machine control power
Front control panel:
Timer and integrating exposure control switch are used to pick the mode of exposure
If the machine is used in the time mode, the exposure time in seconds must be set
When constant exposure energy is required, the IEC will measure the quantity of energy at the panel / exposure plane and control the shutter to maintain the same exposure energy independent of light intensity
Bullnose:
Contains a light table to aid alignment of the artwork to the substrate
The start cycle switches must be actuated simultaneously to begin print drawer movement
Top and bottom vacuum switches, gauges, emergency off switch and final cycle switches are also on the bullnose.
타마 랙 (TAMARACK) 161B (TAMARACK 161B) 는 빠른 속도로 뛰어난 해상도로 고품질 마스크를 생산하도록 설계된 고급 마스크 생성 및 생산 장비입니다. 이 시스템은 기본 장치에서 3D 입체 분석 마스크 (stereolithography mask) 에 이르기까지 다양한 유형의 마스크를 생성 할 수 있습니다. 161B 는 최신 기술을 사용하며 레이어 정의 (layer definition) 파일을 생성할 수 있습니다. 이 파일은 마스크에 필요한 물리적 레이어를 생성하는 데 사용됩니다. 이 장치는 간편하고 효율적인 마스크 생성을 위한 강력한 광 정렬 머신 (optical alignment machine) 과 최적의 정렬 및 마스크 품질을 위한 고급 이미징 알고리즘 (advanced imaging algorithm) 을 사용합니다. 이 도구는 또한 해상도 및 생산 속도를 높이기 위해 최첨단 전자 빔 리소그래피 (electron-beam lithography) 자산을 통합합니다. 타마 랙 (TAMARACK) 161B는 빠른 처리량과 손쉬운 작동을 위해 설계되었으며, 이는 모든 유형의 마스크 제작 응용 프로그램에 적합합니다. 이 모델은 이미징 정밀도 및 속도 향상, 다중 레이어의 정확한 정렬 및 등록, 재료 비용 절감, 다중 레벨 마스크 생산 지원 등 기존 마스크 생산 시스템에 비해 몇 가지 중요한 이점을 제공합니다. 161B 는 견고한 설계 및 통합 기능을 통해 다양한 업종의 장치 (device) 제조업체의 요구를 충족시킬 수 있습니다. 이 장비는 사진 촬영, 석판 인쇄, 모든 수준의 회로 이미징 등 다양한 작업을 수행 할 수 있습니다. 또한, 이 시스템은 CAD (Computer Aided Design) 기능을 포함하여 완전히 자동화된 마스크 생성 프로세스를 제공하여 복잡한 회로와 아키텍처를 더욱 쉽게 개발할 수 있습니다. TAMARACK 161B 의 통합 이미지 데이터 관리 장치 (Integrated Image Data Management Unit) 를 사용하면 편리하고 정확하게 설계를 저장하고 검색할 수 있습니다. 이 기계는 또한 실패 분석, 테스트 측정, 프로세스 통합 등의 추가 기능을 통합 할 수 있습니다. 마스크 메이킹 (Mask-Making) 기술의 최신 발전에 부응하기 위해 161B는 정기적으로 업그레이드와 업데이트를 받습니다. 소프트웨어 업데이트, 정기 유지 보수, 번거로운 사용 환경을 위한 전용 고객 서비스 (Customer Service) 액세스 등 다양한 서비스가 제공됩니다. 타마 랙 (TAMARACK) 161B는 신뢰할 수 있고, 효율적이며, 비용 효율적인 마스크 생성 및 제작 툴로, 모든 마스크 생산 요구에 이상적인 자산입니다.
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