판매용 중고 ETEC Mebes 4500 #9087990

ETEC 메베 (Mebes) 4500은 고성능 마스크 생성 및 생산 장비로, 포토 마스크 생성 및 제작을위한 종합적인 도구 세트입니다. 프로세서, 디지털 신호 처리, 메모리, 아날로그 혼합 신호, 고속 로직 등 다양한 반도체 프로젝트를 위한 기능을 제공합니다. Mebes 4500은 고급 마스크 레이아웃 서비스를 지원하는 마스크 생성 및 프로덕션 용 통합 시스템을 갖추고 있습니다. 또한 강력한 마스크 설계 데이터베이스와 강력한 마스크 검사 기능이 포함되어 있습니다. 이 장치는 완전하게 자동화되었으며, 빠른 마스크 개발과 고효율 (HI) 생산 처리량을 가능하게 합니다. 이 기계는 픽셀 컨텐트 분석, 자동 결함 감지, 결함 격리, 광학 이미징 기능 등 고급 검사 및 측정 기능을 갖춘 MPC (Selectable Mask Writing Tool) 및 마스크 검사 에셋을 제공합니다. 즉, 사용자가 정확하고 고품질 마스크를 신속하게 생성할 수 있으며, 운영자의 상호 작용을 최소화할 수 있습니다. ETEC Mebes 4500에는 매우 정확한 결과를 제공하도록 설계된 고급 석판 도구가 있습니다. ETEC 설계 플랫폼은 조정 가능한 노출 용량, 제어 된 편광 조명, 디포커스 효과 감소 등 최신 최첨단 기술을 통해 고속 석판화 기능을 제공합니다. 이 플랫폼에는 석판 프로세스를 최적화하는 고급 시뮬레이션 기능도 포함되어 있습니다. 또한 Mebes 4500은 일관되고 안정적인 운영을 보장하는 자동 마스크 작동 모델로 설계되었습니다. 이 장비는 마스크 제작 및 검사, 라우팅, 레이아웃 최적화, 설계 규칙 검사, 검증을위한 강력한 도구를 제공합니다. 또한 리소그래피 매개변수, 시뮬레이션, 자동 맞춤, OPC 등의 자동화된 작업을 위한 강력한 소프트웨어 응용 프로그램 및 분석 프로그램을 제공합니다. 또한 ETEC Mebes 4500은 광범위한 고급 마스크 제작, 테스트 및 포스트 프로세싱 기능을 제공합니다. 이 시스템은 또한 정교한 데이터 조작 (data manipulation) 및 데이터 관리 도구 (data management tools) 로 설계되었으며, 이를 통해 마스크 운영 프로세스 전반에 걸쳐 데이터를 빠르고 쉽게 추적할 수 있습니다. 전체적으로, Mebes 4500은 정확하고 고품질의 포토 마스크 (photomask) 를 만들고 제작하는 고급 기능을 제공하는 종합적인 장치입니다. 고급 마스크 레이아웃 서비스 및 리소그래피 시뮬레이션을 지원하는 최첨단 석판화 도구를 갖추고 있습니다. 또한 자동 마스크 작업 및 데이터 관리 툴, 고급 마스크 제작, 검사, 후처리 기능 등을 제공합니다. 결과적으로, 그것은 광범위한 반도체 프로젝트에 이상적인 솔루션입니다.