판매용 중고 ETEC Mebes 4000 #9412599

ETEC Mebes 4000은 서브미크론 전자 및 MEMS 기반 부품 제작에 사용되는 고급 마스크 생성 및 생산 장비입니다. 고정밀 웨이퍼 노출 시스템, 자동 웨이퍼 인쇄 장치, 고해상도 포토 마스크 검사기 등이 있습니다. 고급 웨이퍼 노출 도구 (Advanced Wafer Exposure Tool) 를 사용하면 노출된 영역의 정확하고 반복 가능한 석판 패턴화 및 이미징이 가능합니다. 에셋에는 고해상도 회절 패턴 (diffraction pattern) 과 모서리 경계 및 패턴 방향의 노출을 정확하게 제어할 수있는 프로버 (prober) 가 포함됩니다. 노출 과정에서의 매우 미세한 정확도 및 반복성 (repeatability in the exposure process) 은 이미징 프로세스의 오차 가능성을 줄이는 데 도움이됩니다. 자동 웨이퍼 (automated wafer) 인쇄 모델은 완전 통합되고 자동화된 웨이퍼 (wafer) 인쇄 장비로, 기판에 완료된 패턴을 빠르고 정확하게 배치할 수 있습니다. 이 시스템은 최첨단 자동 정렬 마스크 정렬 장치 (state-of-the-art self-aligning mask alignment unit) 를 갖추고 있어 인쇄된 패턴의 정확한 인쇄 및 배치를 보장합니다. 마지막으로, 메베 4000 (Mebes 4000) 에 포함 된 고해상도 포토마스크 검사기는 완성 된 포토마스크에서 오류 또는 결함을 검사할 수 있습니다. 광도마스크 (photomask) 는 배율과 빛의 강도로 검사되어 결함을 정확하게 감지 할 수 있습니다. 요약하면, ETEC Mebes 4000은 하위 전자 및 MEMS 기반 구성 요소를 위해 고급 마스크 생성 및 생산 기능을 제공합니다. 고해상도 회절 패턴과 프로버 (prober), 자동화된 웨이퍼 인쇄 도구, 고해상도 포토마스크 검사 기능을 고도로 반복 가능하고, 정확하며, 통합된 자산에 통합했습니다.