판매용 중고 DAVID MANN / GCA 3696 #174319

DAVID MANN/GCA 3696은 반도체 제작 공정을 간소화하기 위해 설계된 고급 마스크 생성 및 생산 장비입니다. 이 시스템은 진공 (vacuum) 기술을 활용하여 매우 정밀하고 높은 처리량 마스크 제작 솔루션을 제공합니다. 이 장치는 뛰어난 성능과 높은 수준의 자동화 (automation) 를 통해 반도체 생산 프로세스와 관련된 광범위한 과제에 적합하며, GCA 3696은 일반적으로 반도체 제작 설정에서 발견되는 여러 구성 요소로 구성됩니다. 기계는 마스크 정렬기, 노출 소스, 광 노출 도구 및 노출 현미경으로 구성됩니다. 노출 소스 (Exposure Source) 는 주요 컴포넌트로, 마스크를 실제로 생성하는 역할을 합니다. 집적회로를 제작하는 데 사용되는 광저항층을 정확하게 노출시킬 수 있는 레이저 (laser) 를 포함하고 있는 고정밀 광자산이다. 빛 노출 모델 (light exposure model) 은 노출 시간과 강도를 조절하여 원하는 결과를 얻습니다. 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 는 포토레지스트 레이어를 회로 레이아웃에 올바르게 정렬하고, 노출 현미경은 정확한 광학 측정 및 초점 검사에 사용됩니다. DAVID MANN 3696은 마스크 제작 프로세스를 자동화하여 마스크를 빠르고 정확하게 만들 수 있도록 특별히 설계되었습니다. 첨단 컴퓨터 제어 장비와 이미징 (Imaging) 을 활용하여 포토레지스트 레이어의 패턴을 최적으로 정렬합니다. 이렇게 하면 "마스크 '를 빠르고 정확 하게 만들 수 있으므로 질 이 가장 높은 결과 를 얻을 수 있다. 이 시스템은 대용량 (high-volume) 생산에 적합하여 단일 마스크를 만드는 데 걸리는 시간을 대폭 단축합니다. 마스크 제작 기능 외에도 3696은 개발 및 베이킹 (baking) 과 같은 노출 후 프로세스 단계를 수용 할 수 있습니다. 이를 통해 연산자는 다양한 회로 유형 (type) 에 대해 광저항을 빠르고 효율적으로 처리 할 수 있습니다. DAVID MANN/GCA 3696은 고도의 다목적 마스크 생성 및 생산 장치입니다. 광범위한 반도체 생산 프로세스에 이상적인 자동화, 고정밀도, 고출력 마스크 제작 솔루션을 제공합니다 (영문). GCA 3696 은 고급 컴퓨터 제어 장치 (computer control machine), 고급 노출 소스 (exposure source) 및 노출 후 프로세스 단계를 통해 높은 품질의 결과를 생성하여 시간과 비용을 절감할 수 있습니다.