판매용 중고 VISION PRECISION GA 16 #9262207

VISION PRECISION GA 16은 집적 회로, 메모리 칩, 이미징 센서 및 기타 여러 소형화 된 기술과 같은 웨이퍼 레벨 장치의 생산을 위해 설계된 마스크 정렬 자입니다. 이 장비는 photolithography를 사용하여 photoresist 코팅 실리콘 웨이퍼에서 실리콘 마스터 마스크 또는 "aligner" 로 패턴을 복제합니다. 광섬유 결합 레이저 소스에서 나오는 2 개의 강력한 레드 라이트 레이저 빔 (red-light laser beam) 을 사용하며, 마스킹 레이어의 노출에 대한 정확한 패턴화 및 균일 한 제어를 위해 유연한 옵토 기계식 부품을 통과합니다. "레이저 '광선 은 서로 다른 파장 으로 조정 될 수 있어서, 더 높은 해상도 와 더 높은 처리율 을 낼 수 있다. GA 16은 정렬 공정에서 매우 정확하고 반복 성을 제공하며, 정렬 정밀도는 약 25nm입니다. 이 정밀도는 전통적인 사진 해설법 (photolithography method) 보다 10 배 우수하며 더 복잡한 마이크로 장치를 만들 수 있습니다. 이 시스템은 또한 자동 현미경과 fiducial 인식 (fiducial recognition) 을 사용하여 웨이퍼를 마스크에 정확하게 정렬하는 자동 웨이퍼 포지셔닝 장치를 갖추고 있습니다. 또한 복합적인 패턴화 (patterning) 요구에 맞게 빔 매개변수를 조정할 수 있는 고급 광학 요소 (advanced optical elements) 가 포함되어 있습니다. VISION PRECISION GA 16은 또한 가변 슬로프 레티클 캐리어를 사용하여 정밀하게 조정합니다. 이 반송파는 웨이퍼에 마스크를 정확하고, 현명하게 등록합니다. 여러 단계의 광학 배열을 통해 조명 (lighting) 과 패턴 해상도 (pattern resolution) 와 특수 필터링 머신 (filtering machine) 을 세밀하게 조정하면 오염물로부터 광학을 신속하게 보호할 수 있습니다. 노출 과정에는 노출을 추가로 조정하는 높은 정확도의 광학 로터리 셔터가 포함됩니다. GA 16 은 효율적이고, 정교하며, 신뢰할 수 있는 마스크 정렬기로, 최소한의 인간 상호 작용으로 자동화된 모드로 작동할 수 있습니다. 이 제품은 마이크로 디바이스를 정확하고 경제적으로 생산할 수 있게 해 주며, 제조업체에게는 미세 규모 (micro-scale) 의 패턴 복제를 단순하고 오류 없는 작업으로 만드는 다양한 편리한 기능을 제공합니다.