판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML PE661 / PE700 #9186519

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/PE700 Mask Aligner는 포토 마스크 및 반도체 웨이퍼 생산을 위해 설계된 최첨단 스테퍼/알리너 장비입니다. 기기에는 두 개의 광학 시스템이 있습니다. 하나는 웨이퍼에 포토 마스크 (photomask) 를 정렬하고 다른 하나는 포토 마스크 (photomask) 에 의해 볼 수있는 회절 패턴을 생성하기위한 것입니다. 광학 시스템은 telecentric doublet 목표, dichroic beam splitter 및 2 개의 각도 거울 어셈블리로 구성됩니다. SVG PE661/PE700은 광범위한 FOV (Field of View) 와 정렬 작업에서 높은 정밀도를 제공합니다. 800 × 800 "m FOV는 정확하고 실시간 해상도는 5.4" m 인 반면 1350 × 1400 "m FOV는 6.6" m 해상도를 제공합니다. 이 장비는 패턴 오버레이 측정, 공정 개발, 웨이퍼 검사 작업 (비교할 수없는 정밀도) 을 수행합니다. ASML PE661/PE700 Mask Aligner는 반도체 웨이퍼의 고수율 생산을 위해 설계되었습니다. 고급 옵틱, 다이 투 다이 등록 장치, 정렬 단계, 특허 출원 중인 다중 축 동작 제어 하드웨어가 특징입니다. 이 기계는 넓은 영역 패턴의 스티칭을 최적화하여 크리티컬 정렬 (critical alignment) 응용 프로그램에서 뛰어난 성능을 제공합니다. 또한 타일에 스티칭 옵션을 제공하므로 정밀도가 훨씬 높습니다. PERKIN ELMER PE661/PE700은 기판 클램프 기계, 웨이퍼 처리 장치, 웨이퍼 사전 정렬 장치, 포토 esist 검사 도구 등 다양한 자동 웨이퍼 처리 기능을 제공합니다. 또한 전문 웨이퍼 (wafer) 정렬 및 배치 최적화 시스템을 갖추고 있어 보다 효과적인 자동 데이터 수집 및 분석 기능을 제공합니다. 또한, PE661/PE700 에는 다양한 프로세스 조건에서 가장 높은 정확도를 보장하는 고급 교정 및 튜닝 기능이 포함되어 있습니다. SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/PE700에는 여러 가지 독특하고 고급 안전 기능이 있습니다. 이 기기는 진동 감쇠 메커니즘과 냉각 시스템으로 설계되어 챔버 (chamber) 와 광학의 과열 및 오염을 방지합니다. 이 기계는 또한 컴퓨터 제어 전송 역학을 사용하여 원치 않는 일시적인 동작을 방지합니다. 전반적으로 SVG PE661/PE700 Mask Aligner는 고수율 생산 설정에서 웨이퍼에 대한 포토 마스크를 매우 정확하게 정렬하도록 설계된 정밀 기기입니다. 자동화된 웨이퍼 처리 구성 요소, 고급 옵틱 (optic) 및 계층형 안전 (safety) 기능의 배열로 정확성과 신뢰성이 향상되어 일관성, 고품질 결과를 보장합니다.