판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 640 #128871

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 640은 다양한 기판에 전자빔 리소그래피 패턴을 정확하고 반복적으로 정렬 할 수있는 고급 기능을 갖춘 정교한 마스크 정렬 기 (aligner) 입니다. 이를 통해 제조업체는 미크론 (sub-micron) 수준에서 회로 구성 요소를 정확하게 제작할 수 있으며, 탁월한 수준의 정확성과 반복성을 제공합니다. SVG Micralign 640의 주요 구성 요소는 고해상도 이미징 장비입니다. 이 시스템은 고급 광학 현미경 (Normal 및 Trans-illumination 기능 모두 포함) 과 컴퓨터 제어 조향 단계를 결합합니다. 광학 현미경 (optical microscope) 은 밝은 필드 이미지를 제공하며, 이를 통해 사용자는 기판의 리소그래피 패턴을 정확하게 시각화 할 수 있습니다. 조향 단계 는 "마스크 '와" 마스크' 의 상대적 위치 를 매우 정밀도 로 조절 하여, 기판 을 정확 하게 정렬 하고 조정 한다. 또한 고급 광원 장치 (Advanced Light Source Unit) 가 장착되어 있어 리소그래피 패턴이 항상 정확하게 조명되도록 설계되었습니다. 이 시스템에는 고출력 UV 광원, 전력 분배 네트워크, 렌즈 및 미러 세트가 포함됩니다. "렌즈 '와" 미러' 는 기판 전체 의 조명 의 균일성 을 최대화 하기 위하여 전략적 으로 배치 된다. ASML Micralign 640에는 일련의 정밀 제어 위치 요소도 장착되어 있습니다. 이러한 요소를 사용하면 마스크 위치를 기판에 대해 정확하게 조정할 수 있습니다. PERKIN ELMER Micralign 640에는 고급 제어 도구 (Advanced Control Tool) 가 장착되어 있어 여러 리소그래피 마스크 레이아웃을 프로그래밍하고 저장할 수 있습니다. 이렇게 하면, "마스크 '를 기판 에 비하여 신속 히 위치 를 바꾸어, 정확성 을 상실 하지 않고 신속 히 수정 할 수 있다. Micralign 640 (Micralign 640) 은 Microcircuitry 부품의 효율적인 생산 및 정렬을 용이하게하도록 설계된 강력하고 정확한 도구입니다. 고급 이미징 (advanced imaging), 광원 (light source) 및 포지셔닝 (positioning) 요소를 사용하면 리소그래피 패턴을 여러 기판에 정확하고 반복적으로 정렬하여 우수한 결과와 품질 제어를 보장할 수 있습니다.