판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 330HT #128862

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 330HT는 최첨단 마스크 정렬 장비로, 웨이퍼 패턴에 칩 요소를 쉽게 정렬 할 수 있도록 설계되었습니다. 이 시스템은 뛰어난 속도, 정확도 및 처리량을 제공하여 포토마스크 제작, 장치 제작, 고급 리소그래피 (advanced lithography) 등과 같은 어플리케이션에 적합합니다. SVG Micralign 330HT 장치의 주요 구성 요소는 마스크 프레임, 굴절 광학, 렌즈 어셈블리, 정렬 테이블 및 2 차원 (2D) 크로스 엔진입니다. 마스크 프레임은 양면 또는 4면 스윙 모듈식 마스크 (swing modular mask) 로 설계되어 여러 마스크를 서로 다른 위치에서 작동시킬 수 있습니다. 굴절 광학은 정렬 중에 대상 패턴의 선명하고 고해상도 (high-resolution) 뷰를 확인합니다. 또한 "렌즈 '조립품 은 가장 좋은 정렬 초점 을 얻기 위하여 조정 할 수 있다. 정렬 테이블은 2 개의 2 차원 조정 라운드로 구성되며, 따라서 마스크 위치를 정확하게 조정하여 대상 패턴을 웨이퍼에 맞출 수 있습니다. 2D 크로스 엔진은 2 개의 2D 크로스 해치 (cross-hatch) 와 선형 인코더가있는 한 쌍의 이동 단계를 사용하여 대상과 웨이퍼 사이의 거리를 측정합니다. MAC (Mask Aligner Controller) 은 작업의 두뇌 역할을 수행하므로 사용자가 원하는 정렬 설정을 쉽게 선택하고 구성할 수 있습니다. 이 컨트롤러는 스테이지의 마스크 위치를 표시하는 정렬 창 (Alignment Window) 과 최대 10 미크론 (Micron) 의 정확도와 자동 정렬을 보장하는 통합 기능이 포함된 제어 세트 (Control set) 로 구성됩니다. 또한, MAC에는 최적의 해상도를 위해 마스크의 초점을 원하는 지점으로 끌어 올리는 자동 초점 (Autofocus) 기능이 장착되어 있습니다. ASML Micralign 330HT 머신의 일반적인 작동 모드에는 단일 마스크 정렬, 웨이퍼에 자동 정렬, 수동 웨이퍼 정렬 및 3 가지 모드가 모두 결합되어 있습니다. 예를 들어, 자동 정렬 (auto-align to wafer) 모드에서는 웨이퍼가 이동함에 따라 최적화 매개변수가 자동으로 조정됩니다. 단일 (Single), 자동 정렬 (Auto-align) 및 수동 정렬 (Manual Align) 모드를 조합하면 서로 다른 해상도와 패턴을 사용할 수 있습니다. 전반적으로 Micralign 330HT는 매우 다양한 마스크 정렬 도구입니다. 정확성과 속도로 다양한 칩 요소를 처리 할 수 있으며, 고급 리소그래피 (lithography), 장치 제작 (device fabrication) 및 포토 마스크 제작 (photomask fabrication) 에 이상적인 선택입니다. 지능형 Mask Aligner Controller, 조정 가능한 optic, 조절 가능한 렌즈 어셈블리 및 2차원 크로스 엔진을 갖춘 이 에셋은 설정 시간을 크게 줄이고 여전히 뛰어난 정렬 결과를 제공할 수 있습니다.