판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML 761 HT #9265344

SVG/PERKIN ELMER/ASML 761 HT는 집적 회로 제작을 위해 사진 해설에 사용되는 마스크 정렬 자입니다. 이 장비는 단파장 심층 울트라 바이올렛 (DUV) 레이저와 다양한 기판과 유연한 마스크를 처리하고 정렬하도록 설계된 6 축 간트리 (gantry) 를 갖추고 있습니다. SVG 761 HT 는 다양한 크기와 시야 (field of view), 그리고 자동화된 다양한 기능에 비해 높은 정렬 정확도와 정밀도를 제공하여 빠르고 안정적인 실험을 용이하게 합니다. ASML 761HT (ASML 761HT) 를 사용하면 다양한 차원에서 최소 0.3 미크론 크기의 집적 회로를 구성 할 수 있습니다. 마스크 및 기판을 정확하게 정렬하기 위해 'X', 'Y' 및 3 개의 각축을 사용하는 6 축 간리가 특징입니다. ASML 761 HT에는 마스크와 기판을 모두 정렬하는 데 사용되는 19 미크론 스팟 레이저도 있습니다. 이 시스템에는 필요한 피쳐 크기에 따라 교환할 수 있는 TTL 이동식 렌즈 (removable lens) 도 있습니다. 4자리 정렬 테이블을 사용하면 기판 및 마스크를 빠르고 정확하게 설정할 수 있습니다. 이 장치의 폐쇄 루프 서보 전자 장치 (closed-loop servo electronics) 는 간트리 (gantry) 에 대한 정확한 제어 및 피드백을 제공하여 높은 정확성과 반복성으로 움직일 수 있습니다. 또한 SVG/PERKIN ELMER/ASML 761HT는 진공 또는 공기에 사용할 수 있으므로 설정 및 작동 중 유연성이 가능합니다. SVG 761HT 기계는 LAM (Laser Alignment Marking) 방법을 사용하여 마스크 몰드 등록 및 기판 지형을 결정합니다. LAM (Line-By-Line Mask-Written) 노출과 기판을 표시하는 레이저 노출로 구성된 2 차 노출로 구성됩니다. "레이저 '는" 마스크' 가 차단 하지 않는 영역 을 폭로 하여 전통적 인 방법 보다 더 정확 한 정렬 을 한다. 761HT에는 매크로 정렬 작업을위한 고해상도 비전 도구도 포함되어 있습니다. 이 자산은 통신 광학 모델과 매우 민감한 CCD 카메라 검출기를 사용하여 정확성과 정확성을 보장합니다. 장비는 최대 128 개의 기준점을 감지하고 정렬하여 빠르고 신뢰할 수있는 실험을 할 수 있습니다. 또한 PERKIN ELMER 761HT에는 여러 안전 기능도 포함되어 있습니다. 이 시스템은 조작자 안전을위한 라이트 커튼 (light curton) 과 머시닝 컴포넌트의 먼지 및 이물질을 줄이기 위해 자동 클리닝 장치 (cleaning unit) 를 갖추고 있습니다. 또한, 컴퓨터에는 성능 추적 및 모든 문제의 경고 연산자 (alert operator) 를 위한 자동 실행 종료 진단 (End of run diagnostics) 기능이 포함되어 있습니다. 761 HT는 높은 정밀도와 정확도가 필요한 photolithography 응용 프로그램에 이상적인 도구입니다. 다양한 기능과 기능을 제공하여 빠르고 안정적인 (F.A.S.T.) 실험을 용이하게 합니다.