판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 HT #9165927

ID: 9165927
웨이퍼 크기: 6"
Mask aligner, 6" Process: Litho Non-functional.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 HT는 반도체 제조에 사용되는 고급 마스크 정렬 자입니다. 이 도구는 리소그래피 (lithography) 프로세스에 사용되는 중요한 도구이며 실리콘 (silicon), 유리 (glass), 석영 (quartz) 등 다양한 기판에서 고품질의 정확한 이미지를 제작할 수 있습니다. SVG 661 HT는 고속, 정밀 모션 장비로 인해 탁월한 성능과 정확성을 제공하는 업계 표준 도구입니다. 광학 및 진공 웨이퍼 스테이지 (Optical Wafer Stage) 와 레이저 간섭계 (Laser Interferometer Metrology) 및 빔 정렬기 (Beam Aligner) 옵션을 모두 상호 교환 할 수있는 모듈식 디자인이 장착되어 있습니다. 이 "마스크 '정렬 장치 는 필요 에 따라 여러 가지" 렌즈', "디퓨저 '및 기타 구성 요소 를 사용 함 으로써 증강 될 수 도 있다. 알리너 (aligner) 는 또한 신속한 노출 시간 조정 및 고해상도 이미지 획득을 지원하는 강력한 제어 시스템을 갖추고 있습니다. 또한 정확한 오버레이 정확도를 제공하는 고속, 듀얼 빔 크로스 헤어 정렬 장치 (dual-beam crosshair alignment unit) 가 장착되어 있습니다. 이 기계에는 샘플을 실시간으로 보는 데 사용할 수 있는 카메라가 내장되어 있습니다 (영문). 이미징 기판 외에도 ASML 661 HT는 집적 회로 (IC), 미세 전기 기계 시스템 (MEMS) 및 기타 미크론 레벨 구성 요소 제조와 같은 더 깊은 수준의 응용 프로그램을 위해 처리 할 수 있습니다. 이 툴은 또한 고속 자동 웨이퍼 (Automated Wafer) 처리 에셋을 갖추고 있어 다운타임을 최소화하면서 프로세스 챔버 (Process Chamber) 로의 웨이퍼를 전송할 수 있습니다. 또한, 이 마스크 정렬기는 먼지와 방수 모두 견고하고 내구성이 뛰어난 섀시로 구성됩니다. 액티브 진동 제어 모델 (Active Vibration Control Model) 이 특징으로, 장비의 이동으로 인해 이미징 프로세스가 중단될 가능성이 없습니다. PERKIN ELMER 661 HT에는 전체 대기 질을 향상시키고 기계의 수명을 연장시키는 내장 입자 필터가 제공됩니다. 전반적으로, 661 HT는 성능, 안정성, 유연성의 뛰어난 조합을 제공하는 고급 마스크 정렬기입니다. 초고속· 정밀 모션 장비, 견고한 제어장치, 자동화된 웨이퍼 (wafer) 취급 장치와 더불어 반도체 제조에 필수적인 도구다.
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