판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML 554 HT #293645518

SVG/PERKIN ELMER/ASML 554 HT 마스크 aligner는 반도체 장치 생산과 같은 photolithography 응용 프로그램에 사용되는 장비입니다. 마스크에서 기판으로 패턴을 전송하는 데 사용됩니다. 이 시스템은 높은 처리량 (throughput) 과 정밀도 (precision) 를 제공하여 패턴 반복성과 정확도가 높은 고급 반도체 장치의 생산에 적합합니다. 이 장치에는 5 배 감소 프로젝션 렌즈, 쿼츠 램프 및 플랫 필드 응축 렌즈가 포함 된 프로젝션 머신이 있습니다. 쿼츠 램프는 최적의 조명과 높은 처리량을 보장하는 반면, 투사 렌즈 (Projection Lens) 는 고해상도 이미지를 제공하여 세부 사항을 정확하게 보여줍니다. 투영 렌즈의 N.A.는 0.55이고 숫자 조리개는 최대 0.45입니다. 조명 요소는 또한 단색 레이저 소스 (monochromatic laser source) 와 개선 된 해상도와 명암을 위해 회절 성 광학 요소 (diffractive optical element) 로 구성됩니다. 이 도구의 범위는 0.7 ~ 6.0 äm입니다. 0.3 µm +/- 0.1 äm의 절대 단계 정확도는 패턴 된 마스크와 기질의 정확한 정렬을 허용합니다. 반복 가능한 결과를 보장하기 위해 스테퍼는 온도 조절 및 온도 조절입니다. 스테이지는 수동 또는 자동 환경에서 작동 할 수 있습니다. 스테퍼 외에도, 정렬 자산에는 스캐닝 범위가 최대 4mm 인 X-Y 스테이지가 포함됩니다. 이것은 동일한 정렬 모델에서 여러 기판을 오버레이하는 데 사용됩니다. 스테퍼 및 X-Y 스테이지에는 위치를 측정하기 위해 인코더가 장착되어 있으므로 정확하고 반복 가능한 기판 정렬이 가능합니다. 이 장비에는 패턴 또는 크롬 마스크 (chrome mask) 또는 접촉 정렬 마스크 (contact alignment mask) 를 공급하는 자동 마스크 로더가 있습니다. 마스크 타일러 (Mask Tiler) 를 사용하면 동일한 기판에 여러 마스크를 나란히 배치하여 처리량을 높일 수 있습니다. "틸터 '는" 마스크' 를 정확 하게 배치 하기 위해 2.4 - 4 도 의 단계 를 가지고 있기 때문 이다. SVG 554 HT 마스크 정렬기는 사진 석판 응용 프로그램을위한 다용도 및 고급 시스템입니다. 이 장치에는 고해상도 프로젝션 옵틱, 정확한 스테퍼 및 X-Y 스테이지 및 자동 마스크 로더가 있습니다. 이 기계는 높은 처리량 (Throughput) 과 결합하여 고품질 반도체 장치 생산에 적합합니다.