판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT #9165929

SVG/PERKIN ELMER/ASML 551 HT Mask Aligner는 웨이퍼에 회로를 패턴화하고 정렬하도록 설계된 최첨단 자동 웨이퍼 레벨 리소그래피 장비입니다. 이 제품은 정확하고 정확한 노출 기능을 제공하여, 최대 100nm 의 정확도를 제공합니다. 그것 은 크기 가 작고, 유사 한 리소그래피 "시스템 '보다 비용 이 적기 때문 에 대용량" 칩' 생산 을 위한 훌륭 한 선택 이다. 이 시스템은 간섭 매핑 (interference mapping) 을 사용하여 마스크 패턴을 기판 위에 정확하게 정렬하고 지름 6 인치까지 기판을 수용할 수 있습니다. 광원, 렌즈, 마스크를 들고있는 슬릿 로터, 정렬 검출기로 구성되어 있습니다. Mask Aligner는 최소 라인/공간 패턴 (0.5um), 최소 영역 (0.2um x 0.2um) 및 노출 반복 정확도 (0.1um) 로 웨이퍼를 이미징 할 수 있습니다. 기계 는 정밀도 가 높은 "모터 '의 도움 을 받아 작용 하는데, 이" 모터' 는 정확 하고 정확 한 동작 조절 을 한다. 고해상도 선형 인코더로 구성되며, 이는 리소그래피 (lithography) 에 사용되는 광학 계산을 정확하게 측정하는 수단을 제공합니다. 이 장치는 100mm 및 150mm 웨이퍼를 수용 할 수도 있습니다. 그것 은 "마스크 '무늬 를 기판 에 맞추어 쉽게 맞출 수 있는 미세 한 조정 장치 를 갖추고 있다. 이 기계는 최대 20 개의 키를 저장할 수있는 자동화된 모델 (model) 과 키프레임 (keyframe) 프로그래밍 기능을 갖추고 있으며, 사용자가 패턴을 빠르고 정확하게 리콜할 수 있습니다. SVG 551 HT 마스크 정렬 (HT Mask Aligner) 에는 3.5 "LCD 디스플레이를 포함하여 여러 가지 고급 제어 기능이 포함되어 있으며, 이를 통해 사용자가 쉽게 정렬 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한, 이 도구에는 자동 교정 기능이 내장되어 있으므로 각 노출 전에 수동 교정이 필요 없습니다. 또한, 이 자산에는 사용자에게 친숙한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 가 포함된 포괄적인 소프트웨어 패키지가 포함되어 있습니다. 이를 통해 사용자는 필요에 따라 모델을 신속하고 직관적으로 조정할 수 있습니다. 소프트웨어는 또한 프로그래밍 가능한 매개변수를 저장하는 데 사용할 수 있으며, 후속 실행을 위해 수동으로 마스크를 다시 프로그래밍하고, 저장된 패턴을 신속하게 검색할 수 있습니다. 전반적으로 ASML 551 HT Mask Aligner는 광범위한 리소그래피 요구에 이상적인 선택입니다. 대용량 칩 생산에 대한 정확하고 반복 가능한 노출 기능과 자동 정렬 (automated alignment), 보정 (calibration) 등 다양한 고급 기능을 제공합니다.