판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML 340 #33407

SVG/PERKIN ELMER/ASML 340 Mask Aligner는 다양하고 신뢰할 수있는 반도체 석판 도구입니다. 이 도구는 작은 수은-제논 램프 (mercury-xenon lamp) 에 의해 생성 된 빛을 사용하여 반도체 웨이퍼에 패턴과 구조를 에치하여 집적 회로, 트랜지스터 및 기타 전자 부품을 제조 할 수 있습니다. 마스크 정렬 (Mask Aligner) 은 전체 8 인치 너비의 시야로 설계되어 반도체 웨이퍼의 원하는 영역에 마스크를 정확하고 정확하게 정렬합니다. 또한 이 기능을 사용하면 회로 레이아웃 패턴을 빠르고 정확하게 에칭할 수 있습니다. 마스크 정렬 (Mask Aligner) 의 상단 플레이트를 이동할 수 있으므로 반도체 웨이퍼 (wafer) 의 원하는 영역에 마스크를 정확하고 정확하게 정렬할 수 있습니다. 마스크 알리너 (Mask Aligner) 에는 마스크의 패턴화 된 표면을 웨이퍼에 노출 할 수있는 노출 헤드가 장착되어 있습니다. 이것은 웨이퍼를 가로 질러 선형 경로를 따라 머리를 움직임으로써 수행됩니다. 이 프로세스는 연속적이고 반복 가능하며, 매번 매우 정확하고 깨끗한 이미지를 제공합니다. 노출 헤드는 또한 자외선, 가시광, 근적외선, 제어 된 표면 준비를위한 질소, 아르곤, 산소를 사용할 수 있습니다. 또한 마스크 알리너 (Mask Aligner) 는 빔 확장기 (Beam Expander) 를 특징으로하며, 사용자가 에칭되는 패턴에 대한 최상의 해상도를 달성하기 위해 작동 거리, 빔 지름 및 빔 위치를 정확하게 조정할 수 있습니다. 이것 은 "렌즈 '," 미러' 및 기타 구성 요소 의 주 의 깊이 선택 한 조합 을 사용 하는 "이온 '확장기 를 정확 하게 제어 함 으로써 수행 된다. 또한, Mask Aligner는 최첨단 노출 제어를 특징으로하며, 이를 통해 용량, 노출 시간, 발열량, 에치 깊이 등의 노출 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한, 마스크 알리너 (Mask Aligner) 는 고급 기계적 설계로 인해 뛰어난 정밀도를 제공하며, 이는 웨이퍼 표면을 가로 질러 노출 용량의 변동을 최소화합니다. 결론적으로, SVG 340 Mask Aligner (SVG 340 Mask Aligner) 는 반도체 웨이퍼의 정확한 조작을위한 훌륭하고 신뢰할 수있는 도구이며, 정확한 집적 회로 설계를 만들려고하는 사람들에게 필수적인 도구입니다.