판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / ASML 240 #33408

SVG/PERKIN ELMER/ASML 240 Mask Aligner는 고품질 반도체 제품을 생산하도록 설계된 고속 장비입니다. 고급 패턴, 정렬 정확도 및 정렬 안정성을 제공하는 한편, 상당한 비용 절감 효과를 제공합니다. 이 "시스템 '은 모든 크기 의 기판 에 극히 정확 한 전자 빔 민감성" 마스크' 를 맞추도록 설계 되었다. SVG 240 은 통합 모듈식 설계를 기반으로 하며, 유지 보수 비용 측면에서 간편하고 비용 효율적입니다. 제조 프로세스의 빠르고, 효율적이며, 정확한 리소그래피가 가능합니다. 이 모델에는 고급 기능 (예: 결합 된 리소그래피를위한 2 개의 개별 작업 단계, 향상된 위치 정확도 및 다중 포인트 기반 정렬) 이 포함됩니다. ASML 240의 모션 스테이지에는 정밀 머시닝 (precision-machined) 컴포넌트와 닫힌 루프 컨트롤러 (closed-loop-controller) 가 있어 스테이지의 정확하고 부드러운 동작을 보장합니다. 스테퍼 모터는 2 초의 반복 성과 2-20 초의 범위로 매우 정확한 패턴 전달을 제공합니다. 모션 머신은 또한 고속 로터리 테이블 (rotary table) 과 고정밀 로터리 인코더 (rotary encoder) 와의 각도 정렬을 지원하여 정확성을 보장합니다. 마스크 홀더의 디자인은 0.5hm 이상의 정상 상태 정확도를 가진 반복 가능하고 신뢰할 수있는 정렬을 제공합니다. 마스크 홀더는 4 "~ 6", 8 "~ 12" 및 최대 24 "크기를 포함한 전체 마스크 선택을 허용합니다. 또한 다중 레벨 패턴화, 포지셔닝 및 정렬이 필요한 고도로 설계된 마스크를 지원합니다. 이 도구에는 패턴 다듬기, 규칙 기반 피쳐 인식, 오버레이 도량형, 정렬 최적화 등의 여러 사전 설정 매개변수가 포함된 고급 자동 정렬 기능도 포함되어 있습니다. 또한 사용자는 이미지 개선, OPC (Optical Proximity Correction), 레티클 (Reticle) 배치 등 다양한 리소그래피 도구를 선택할 수 있습니다. 전반적으로 PERKIN ELMER 240 Mask Aligner는 반도체 제조에 사용될 수있는 매우 효율적이고 비용 효율적인 자산입니다. 모듈식 디자인과 통합 기능을 통해 고급 리소그래피 (lithography) 어플리케이션에 이상적인 선택이 가능합니다.