판매용 중고 QUINTEL Q4000 #293636362

QUINTEL Q4000은 반도체 산업의 리소그래피에 사용되는 자동 마스크 정렬 자입니다. 가장 까다로운 마이크로일렉트로닉스 (microelectronics) 애플리케이션에 적합하며, 오늘날의 최신 마이크로칩 제조 (microchip manufacturing) 의 핵심이 되는 고급 프로세스를 지원합니다. QUINTEL Q 4000은 견고한 고해상도 단계를 자랑하며, 정밀한 정렬이 가능하며, 위치 정밀도는 20 나노미터입니다. 더 큰 기판 또는 레티클의 경우 스테이지는 인상적인 2,500mm (98.4 ") X-Y 범위를 지원합니다. 로드 잠금 장치는 최대 4 개의 300mm 레티클을 수용할 수 있으며, 처리량이 높고 프로세스 효율성이 높아집니다. 정확한 정렬 및 등록을 위해 Q-4000은 고급 섀도 투사 장비를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 정밀한 레이저 소스 (laser source) 와 특수 CCD 검출기를 사용하여 레티클과 기판을 정확하게 정렬합니다. 따라서 복잡한 패턴을 일관되고 정확하게 인쇄할 수 있습니다. Q 4000은 고성능 스캔 헤드 (scan head) 와 프로그래밍 가능한 노출 소스를 사용하여 노출을 정확하게 제어합니다. 또한 다양한 저항 소재 (Resist Material) 와 협력하여 사용자에게 유연성을 제공하고 프로세스 효율성을 높이도록 설계되었습니다. QUINTEL Q-4000은 다양한 자동화 기능도 제공합니다. 이 장치에는 완전히 통합 된 로봇 처리 장치 (robotic handling machine) 가 장착되어 기판, 웨이퍼, 레티클 및 자기 매체를 쉽게 변경할 수 있습니다. 이렇게 하면 빠르고 일관된 처리가 가능합니다. 마지막으로, Q4000 은 프로그래밍 및 데이터 분석을 간소화하는 정교한 소프트웨어 패키지를 사용합니다. 이를 통해 사용자는 디지털 회로를 신속하게 설계, 디버그, 수정하고, 회로 컴포넌트의 이름을 지정하고, 구성할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 또한 실리콘이 생성되기 전에 오류를 식별하고 수정하는 강력한 분석 (analysis) 기능을 제공합니다. 전반적으로 QUINTEL Q4000은 수율을 높이고 도구 활용도를 최대화하도록 설계된 고급 석판화 도구입니다. 정확한 섀도 투사 자산 (shadow projection asset), 프로그래밍 가능한 노출 소스 (programmable exposure source) 및 통합 자동화 (integrated automation) 를 포함한 인상적인 기능 범위는 마이크로일렉트로닉스의 고성능 설계 및 제조에 이상적인 솔루션입니다.