판매용 중고 QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #293816223

QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 Mask Aligner는 반도체 칩을 제조하는 데 사용되는 고정밀 리소그래피 도구입니다. 이것 은 "나노미터 '로 측정 되는 크기 로 매우 작은 구조 를 생산 할 수 있으며, 복잡 하고 복잡 한 회로" 패턴' 의 생산 에 적합 하다. QUINTEL Q7000 (QUINTEL Q7000) 은 매우 정밀하고 컴퓨터 제어 단계를 사용하여 인쇄할 패턴을 포함하는 레티클을 기판에 정확하게 배치합니다. 정밀 광학 장치 와 매우 다양 한 "레이저 '조명원 을 사용 하여" 패턴' 이 극히 정확 하게 인쇄 되도록 한다. NEUTRONIX Q 7000은 패턴을 웨이퍼에 노출시키기 위해 2 단계 프로세스를 사용합니다. 먼저, 저항성 물질 의 "이온 '을" 웨이퍼' 표면 에 끌어들이기 위해 전기 장 이 만들어진다. 그런 다음, "에너지 '를" 레지스트' 물질 에 적용 하여 치료 한다. 전기 "필드 '는 기계 의 노출 머리 주위 에 장착 되는 일련 의 전극 에 의해 만들어진다. 이 전위 는 "레이저 '광선 의 초점 을 조정 하도록 조정 되어 있으며, 한" 나노미터' 내 에서 정확 하게 수행 할 수 있다. QUINTEL Q 7000의 가장 주목할만한 기능은 광 장비입니다. 광학 시스템에는 광학 드릴 (optical drill) 이 포함되어 있는데, 이 드릴 (drill) 은 레이저 광을 웨이퍼에 형성하고 초점을 맞추는 데 사용됩니다. 이 장치에는 선형 스캐너 (Linear Scanner) 도 포함되어 있습니다. 선형 스캐너 (Linear Scanner) 는 원형 또는 래스터 패턴으로 빔을 옮기는 데 사용되며 패턴을 웨이퍼에 정확하게 에칭합니다. 선형 스캐너 (Linear Scanner) 는 또한 노출 패스를 반복하여 높은 정확성과 반복성을 보장합니다. 매우 정확한 QUINTEL/NEUTRONIX Q 7000은 또한 여러 웨이퍼를 동시에 처리 할 수 있습니다. 한 번에 최대 8 개의 웨이퍼 (wafer) 를 처리하여 처리 속도를 높일 수 있습니다. 이 기계는 또한 고정밀 센서와 피드백 (feedback) 시스템을 장착하여 각 웨이퍼의 방향을 모니터링하여 정확성을 보장합니다. 안전하고 인체 공학적 (ergonomic) 인 작동을 보장하기 위해 Q 7000에는 원격 콘솔 (remote console) 이 장착되어 있어 도구를 제어할 수 있습니다. 또한 콘솔 (Console) 은 리소그래피 상태 및 작업 진행 상황에 대한 정보를 표시하는 데 사용됩니다. 이를 통해 자산 오작동 또는 과잉 노출이 즉시 감지됩니다. 전반적으로 NEUTRONIX Q7000 Mask Aligner는 인상적이고 신뢰할 수있는 석판화 모델로 일관되고 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 정밀 광학, 다양한 레이저 소스 (laser source) 및 여러 웨이퍼를 동시에 처리할 수있는 능력으로 인해 최신 반도체 장치를 제작하는 데 적합합니다.