판매용 중고 PERKIN ELMER 340 #293643187

PERKIN ELMER 340 Mask Aligner는 microminiature photolithography 마스크 제작에 사용되는 리소그래피 도구입니다. 자외선 (UV) 을 사용하여 크롬, 석영, 알루미늄을 포함한 다양한 마스크 레이어를 노출하도록 설계되었습니다. Mask Aligner는 전기적으로 구동되며 Windows 운영 장비를 통해 제어됩니다. 340 Mask Aligner는 광학 마스크를 빠르고 정확하게 정렬하도록 설계되었습니다. 즉, 자동 정렬 기능이 내장된 마이크로프로세서 제어 스테이지로, 레이어를 매우 정확하게 정렬할 수 있습니다. 또한 마스크 정렬 (Mask Aligner) 에는 그림자 정렬 마스크 (Shadow Alignment Mask) 라고 하는 센서 시스템이 있어 노출되는 레이어의 위치와 방향을 정확하게 감지할 수 있습니다. 마스크 정렬 (Mask Aligner) 의 스테이지 속도는 최대 25cm/s이며 레이어를 빠르게 처리 할 수 있습니다. PERKIN ELMER 340 Mask Aligner는 최대 해상도 0.8 미크론, 최소 기능 크기 1.2 미크론으로 양질의 사진 촬영 마스크를 제작할 수 있습니다. 마스크 알리그너 (Mask Aligner) 는 또한 레이저 빔 사변 정렬 장치를 특징으로하며, 이를 통해 마스크를 매우 정밀하게 정렬 할 수 있으며, 정확도는 10jm 이상입니다. 이 기계 는 반사 된 "레이저 '광선 을 이용 하여 가장 작은" 피처' 크기 의 세부점 을 탐지 하여 모든 종류 의 기판 에 적합 하다. Mask Aligner는 또한 마스크를 시각적으로 검사하기위한 온보드 통합 CCD 카메라를 갖추고 있습니다. 이것 은 "마스크 '의" 이미지' 를 여러 단계 의 리소그래피 '로 캡처 한 다음 "이미지' 를" 컴퓨터 '로 보내 추가 분석 과 비교 를 함 으로써 수행 된다. 이 도구를 사용하면 마스크의 결함, 불규칙성, 오정을 신속하게 감지할 수 있습니다. 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 에는 다양한 리소그래피 프로세스 간에 빠르게 전환할 수 있는 빠른 LCD 화면이 있습니다. 이를 통해 운영자는 한 프로세스에서 다른 프로세스로 신속하게 전환하고, 다운타임을 줄이고, 효율성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 마스크 정렬 (Mask Aligner) 을 통해 연산자는 다른 마스크에 대해 서로 다른 정렬 설정을 저장하고 리콜할 수 있으며, 각 설정을 조정하지 않고도 여러 마스크를 빠르고 정확하게 처리 할 수 있습니다. 340 Mask Aligner는 다양한 microelectronic 장치 및 응용 프로그램에 대한 고품질 photolithography 마스크를 생성 할 수 있습니다. 고해상도와 정밀도로 나노 스케일 (nanoscale) 에서 고급 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 에 이르는 모든 것에 마스크 제작에 사용할 수 있습니다.