판매용 중고 OAI Hybralign Series 400 #9096376

OAI Hybralign Series 400 (OAI Hybralign Series 400) 은 반도체 업계의 사진 촬영 응용 프로그램을위한 정확하고 고품질 마스크를 생산하도록 설계된 마스크 정렬기입니다. 첨단 광학 이미징 시스템 (Optical Imaging System) 을 사용하여 크기 2 미크론 정도의 작은 기능을 이미징하고 에치할 수 있습니다. 마스크 정렬기는 3 미크론의 반복 가능성에 도달 할 수있는 웨이퍼 스테이지를 특징으로합니다. 스테이지는 최대 직경 300mm의 대형 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. Hybralign Series 400은 마스크 패턴을 웨이퍼에 정확하게 정렬하기 위해 현미경과 레이저 정렬의 조합을 사용합니다. 최대 10 배율의 고해상도 광광 현미경 (Optical Light Microscope) 을 사용하여 패턴 정렬을 정확하게 감지하고 크게 잠급니다. 또한 레이저 정렬 시스템 (Laser Alignment System) 은 4 개 또는 5 개의 참조 지점에 맞게 이미지를 정렬하기 위해 웨이퍼를 고정밀도 스캔합니다. Hybralign의 정렬 정확도는 매우 정확하며 위치 조정 정확도는 +/- 0.5 m입니다. 이렇게 하면 마스크 패턴의 피쳐가 웨이퍼 (wafer) 에서 정확하고 정확하게 재생산됩니다. 또한 원하는 응용 프로그램에 따라 깊이 범위의 레이어를 에칭 (eching) 할 수도 있습니다. OAI Hybralign Series 400은 또한 사용자가 신속하게 작업을 설정하고 실행할 수 있도록 사용자 친화적 인 인터페이스를 제공합니다. 또한 GDS II 형식 파일과 호환되도록 설계되어 마스크 패턴을 더 쉽게 읽고 시각화할 수 있습니다. 또한, 설정 및 정렬 프로세스는 제어판을 통해 원격으로 모니터링할 수 있습니다. 전반적으로 Hybralign Series 400은 반도체 산업의 photolithography 응용 분야를 위해 특별히 설계된 고정밀 마스크 정렬기입니다. 첨단 광학 이미징 (Optical Imaging) 및 레이저 정렬 시스템 (Laser Alignment System) 을 통해 정밀하고 고품질의 마스크를 최대 0.5m까지 정밀하게 만들 수 있습니다. 또한, 사용자에게 친숙한 인터페이스를 통해 사용자가 신속하게 작업을 설정하고 실행할 수 있으며 GDS II 형식도 호환됩니다.