판매용 중고 OAI HYBRALIGN 500 #9012380

OAI HYBRALIGN 500은 IC (Integrated Circuits) 개발에서 리소그래피 프로세스에 사용되는 전문 마스크 정렬 자입니다. 그것 은 "스테퍼 '의 일종 으로 기판 에" 패턴' 을 그리는 데 사용 된다. HYBRALIGN 500은 이중 필드 머신입니다. 즉, 동시에 이미지에 사용할 수있는 두 개의 필드가 있습니다. 이렇게 하면 같은 패턴 내에서 필드 (field) 와 다른 마스크의 수직 (vertical) 정렬 간의 신속한 교환이 가능합니다. OAI HYBRALIGN 500의 해상도는 스테퍼 매개 변수에 따라 0.2 ° m 이상입니다. 여기에는 초점 최적화 심도, UV 광 노출, 정렬 및 초점 시스템이 포함됩니다. 또한 ECU (Exposure Control Unit) 가 포함되어 있습니다. ECU (Exposure Control Unit) 는 최고의 정확도와 최고의 이미지 품질을 위해 각 노출에 대한 설정을 최적화하는 데 사용됩니다. 그런 다음, 프로세서는 노출 데이터를 컴파일하여 직접 정렬자에게 보냅니다. HYBRALIGN 500에는 패턴과 일치하는 가장 정밀한 정렬 및 최고 해상도의 Aspheric Column (아스페릭 열) 이 장착되어 있습니다. 또한 스테퍼 시프트 (stepper shift) 로 인해 패턴의 차이를 보상 할 수있는 고급 마스크 정렬 시스템이 있습니다. 또한, 안티 드리프트 시스템 (Anti Drift System) 은 지속적으로 허용되는 최대 값 내에서 오정을 유지하므로 리소그래피 프로세스의 전체 수익률이 향상됩니다. 이 기계는 또한 최대 8 인치까지 다양한 마스크 크기를 지원하며, 레이저 저항 노출 (laser resist exposure) 및 레이저 소스 지정 노출 (directed exposure) 과 같은 직접 및 간접 이미징 기능을 제공합니다. 또한 오염을 최소화하는 Clean Contamination Core 장치와 로테이션 스테이지가 내장된 서브 필드 이미징 (sub-field imaging) 옵션이 포함되어 있습니다. OAI HYBRALIGN 500에는 나이프 엣지 방법, 베셀 빔 (Bessel beam) 방법 및 에어베어링 테이블 드라이브 (air bearing table drive) 와 같은 여러 가지 내장 기능이 내장되어 있어 노출 및 이미지 해상도를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한 HYBRALIGN 500은 인체 공학적으로 유지 보수와 원활한 운영을 위해 설계되었습니다. 또한 다양한 유형의 스텝 퍼 (stepper) 와 호환되므로 다양한 산업에 적용 가능합니다. 전반적으로 OAI HYBRALIGN 500은 뛰어난 이미지 해상도와 집적 회로 (Integrated Circuits) 개발을 위한 고도의 정밀 리소그래피를 제공하는 고급 마스크 정렬기입니다. 고급 (Advanced) 기능은 높은 수율을 제공할 뿐만 아니라 처리량을 극대화하고 구성 프로세스의 결함을 줄입니다.