판매용 중고 OAI 806 MBA #293765592

OAI 806 MBA는 반도체, 마이크로 일렉트로닉스 및 관련 산업의 photolithography 응용 프로그램을 위해 설계된 고정밀 마스크 정렬기입니다. 반도체 웨이퍼 (wafer) 또는 기타 포토 esist 코팅 된 기판에 복잡한 패턴을 만들기 위해 가면을 기판과 정렬하는 포괄적 인 솔루션을 제공합니다. 마스크 정렬기는 집적 회로, MEMS 장치, LED 디스플레이 및 기타 미세 구성 제품의 제조 과정에서 중요한 역할을합니다. 806 MBA는 나노 스케일 (nanoscale) 장치에서 고해상도 패턴을 생산하는 데 필수적인, 서브 미크론 정렬 정확도를 달성하기 위해 고급 광 정렬 기술을 갖추고 있습니다. 장비는 조명 시스템, 정렬 단계, 마스크 홀더, 기판 홀더, 제어 장치 등 여러 주요 구성 요소로 구성됩니다. 조명 장치에는 일반적으로 수은 (mercury) 또는 제논 (xenon) 램프 (lamp) 와 같은 고강도 광원이 포함되며, 렌즈, 필터, 조리개와 같은 광학 구성 요소와 함께 마스크와 기판에 균일한 조명을 제공합니다. OAI 806 MBA의 정렬 단계 (Alignment Stage) 를 사용하면 마스크와 기판을 서로 정확하게 배치할 수 있습니다. 일반적으로 정교한 모션 제어 알고리즘으로 제어되는 고정밀 선형 단계, 로터리 스테이지 또는 압전 액츄에이터를 사용합니다. 다축 단계를 사용하면 X, Y, Z 방향으로 미세 조정이 가능하고, 회전 정렬을 통해 마스크와 기판 패턴 사이의 원하는 오버레이 정밀도를 달성할 수 있습니다. 마스크 홀더 (mask holder) 와 기판 홀더 (substrate holder) 는 노출 과정에서 마스크와 기판을 안전하게 마운트하고 정렬하도록 설계되었습니다. 마스크 홀더는 진공 처킹 (vacuum chucking), 기계적 클램핑 (mechanical clamping) 또는 자기 고정 장치 (magnetic retention mechanism) 와 같은 기능을 통합하여 마스크의 안정적이고 반복 가능한 위치를 보장 할 수 있습니다. 이와 비슷 하게, 기질 보유자 는 진공 흡입, 기계적 "클램프 '혹은 정전기" 커킹' 을 제공 하여 노출 되는 동안 기질 을 제자리 에 둘 수 있다. 806 MBA의 제어 단위는 노출 매개변수, 정렬 루틴, 프로세스 시퀀스 설정을 위한 사용자에게 친숙한 인터페이스로 구성됩니다. 여기에는 PLC (programmable logic controller), GUI (Graphical User Interface) 및 정렬 절차 자동화, 노출 설정 최적화 및 시스템 성능 모니터링을위한 통합 소프트웨어가 포함될 수 있습니다. 제어 장치는 또한 컴퓨터, 도량형 도구, 센서와 같은 외부 장치와 상호 작용하여 데이터 로깅, 분석, 피드백 제어를 수행합니다. 작동시 OAI 806 MBA는 일련의 단계를 따라 기판에서 패턴 된 구조를 생성합니다. 프로세스는 마스크와 기판을 해당 홀더에 로드하고 광학 정렬 도구 (optical alignment tool) 를 사용하여 정렬하는 것으로 시작합니다. 그런 다음 마스크 정렬기는 photoresist-coated 기판을 마스크를 통해 UV 조명으로 노출시켜 패턴을 기판으로 전달합니다. 노출 후, 기판은 패턴 된 피쳐를 나타내기 위해 개발, 린싱 및 건조 단계를 거칩니다. 전반적으로 806 MBA 마스크 정렬기는 마이크로 일렉트로닉스 및 반도체 제조에서 고정밀 포토 리토 그래피 응용 프로그램을위한 다재다능하고 신뢰할 수있는 솔루션을 제공합니다. 고급 광 정렬 기능, 정밀 동작 제어 (precision motion control) 및 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 통해 미크론 이하의 해상도로 복잡한 패턴을 제작할 수 있습니다. OAI 806 MBA 는 기술 규모가 작아지고 디바이스 복잡성이 커짐에 따라 차세대 마이크로디비스 (microdevice) 와 집적회로 (integrated circuit) 를 생산하는 데 중요한 역할을 한다.