판매용 중고 OAI 5008 #9155197
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ID: 9155197
웨이퍼 크기: 6"
Mask aligner, 6"
Top side alignment
Manual wafer load
Cassette to cassette handling
Resolution: 5um in proximity mode
Dual field CCTV alignment with motorized X, Y illumination
Variable intensity
Objectives: 5x or 10x
Cognex vision system
Dual focus w/zoom capability
Auto alignment
Auto proximity
Pre-alignment
X, Y, & Theta motion
Software version: 2.0.1
Lamp: 500 watt DUV
Power supply: 500W
Includes:
Mask holders
7" x 7" Square
Vacuum chucks
Round chuck, 6".
OAI 5008은 차세대 사진 분석 응용 프로그램을 위해 설계된 고정밀 마스크 정렬기입니다. 광원 및 스테퍼 기술을 사용하는 풀 필드 UV 노출 장비로, 100mm ~ 8인치 (200mm) 기판의 다양한 웨이퍼 크기를 지원할 수 있습니다. 5008은 포토 마스크가 웨이퍼에 정확하게 노출되도록 제작되었습니다. 스테퍼 포지셔닝 정확도를 사용하고 ± 0.5 "m '의 반복 가능성을 제공하여이를 수행합니다. 이 시스템은 노출 에너지가 0.2 밀리줄에서 20mJ, 광범위한 다중 노출 옵션 (dynamic range in exposure energy) 을 제공합니다. 이 장치에는 절대 정렬을 제공하는 레이저 간섭계 (laser interferometer) 머신과 균일 한 노출 품질을 가능하게하는 컨투어 조명 광학 도구 (contour illumination optics tool) 가 있습니다. 또한, 자동 정렬 최적화 알고리즘뿐만 아니라 최대 정확도 1.5 "m '의 자동 시력 정렬이 있습니다. 자산에는 다양한 제어 시스템 (Control System) 이 있어 성능 향상을 위해 다양한 기능을 제공합니다. PP (Exposure Parameter Control), 노출 관리, 모니터링, 성능 보고서 등 다양한 기능을 갖춘 Process Control 소프트웨어가 제공되어 일관성 있고 높은 성능을 보장합니다. 또한 SPC (Statistical Process Control) 및 RTO (Real-Time Optimary) 모듈을 갖춘 APC (Advanced Process Control) 모델을 통해 프로세스 성능을 정확하게 모니터링하고 개선할 수 있습니다. OAI 5008은 최고의 정확성, 신뢰성 및 일관성을 제공하는 최고 수준의 마스크 조정기입니다. 고정밀도 기능으로 인해 사진 분석 장비에 이상적인 선택이되었습니다. 이 시스템은 매우 다양한 유형의 리소그래피 프로세스 (lithography process) 의 요구를 충족시킬 수 있습니다. 또한 효율적이며, 결함 수준이 낮은 높은 처리량을 제공합니다.
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