판매용 중고 OAI 208S #9219993

OAI 208S (OAI 208S) 는 마스크 정렬기로, 칩 제조 과정에서 집적 회로의 회로 토폴로지를 만들기 위해 미리 정해진 패턴을 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 투영하는 산업 사진 해설기 (photolithography machine) 입니다. 208S 는 고도 의 정밀 기계 로서, 투사 된 "패턴 '을 세밀 하고 정확 하게" 웨이퍼' 로 옮긴다. OAI 208S 모델에는 향상된 레일 안정성과 처리 정확도를 제공하는 듀얼 스티어링 장비가 있습니다. 이 모델에는 마스크 패턴의 각도 왜곡에 대한 교정을 제공하는 광학 정류 시스템 (Optical Rectification System) 도 있습니다. 또한, 208S에는 크고 복잡한 디자인 패턴을 지원하는 광범위한 정렬 필드가 있습니다. OAI 208S는 웨이퍼에 패턴을 노출시키기 위해 HeNe 가스 레이저를 사용하는 풀 필드 사진 촬영 기계입니다. 기계 의 두 축 은 "마스크 '무늬 의 방향 에 맞추어" 프로그램' 할 수 있으므로 정렬 의 정확성 이 향상 된다. 웨이퍼는 척 (chuck) 에 고정되어 있으며 레이저에서 필터를 통해 UV 빛에 노출됩니다. "웨이퍼 '가 빛 에 노출 된 후, 투명 하고 액체 로 된 냉각창 이 초점 을 맞추는 데 사용 된다. 이 창은 노출 프로세스 전반에 걸쳐 정확성을 유지하는 데 도움이 됩니다. 208S에는 정확도를 향상시키는 Direct Image Overlay가 있습니다. 이 기능은 칩의 모든 레이어에 대해 별도의 마스크 (mask) 를 만들 필요가 없기 때문에 중요합니다. 대신, 하나의 레이어의 패턴은 이전에 노출된 레이어와 비교되며, 필요한 조정이 이루어집니다. 노출 프로세스는 DICS (Digital Image Control Unit) 를 사용하여 자동화되고 모니터링됩니다. 이 기계는 웨이퍼가 노출되는 동안 조명 수준 (light level) 과 노출 패턴 (exposure pattern) 을 조정할 수 있습니다. 그런 다음, 반복되는 프로세스에 대한 일관된 결과를 얻기 위해 데이터를 저장, 분석할 수 있습니다. 전반적으로, OAI 208S는 동일한 집적 회로를 빠르고 효과적으로 생산하도록 설계된 매우 정확하고 신뢰할 수있는 photolithography 기계입니다. 그것 은 미리 정해진 "패턴 '을" 실리콘 웨이퍼' 에 빠르고 정확 하게 투영 할 수 있으며, 여러 가지 설계 에 맞게 조정 할 수 있다. 이 마스크 정렬 (mask aligner) 은 동일한 회로를 반복해서 생성하는 신뢰할 수있는 방법을 제공합니다.