판매용 중고 MIKASA M-2L #9156538

MIKASA M-2L은 리소그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 고정밀 저항 마스크 정렬 자입니다. M-2L (M-2L) 은 저항마스크 (resist mask) 와 컴포넌트 (component) 를 높은 수준의 정확도로 정렬하여 포토리스 패턴 (photoresist pattern) 을 다양한 기판으로 정확하게 옮길 수 있습니다. 마스크 정렬기는 왜곡을 크게 줄이고 모든 레이어에서 정확성을 보장하기 위해 2 렌즈 장비를 갖추고 있습니다. 광학은 정확도를 높이기 위해 1.2 배 광학 확대 시스템을 갖추고 있습니다. 미카사 M-2L (MIKASA M-2L) 은 한 쌍의 고정도 스테핑 모터와 광학 유리 배율 인코더를 사용하여 정렬기의 위치를 정확하게 조정합니다. 이를 통해 모든 photomask 및 레이어가 최적의 photolithographic 응용 프로그램에 맞게 정확하게 정렬됩니다. M2-L은 또한 레지스트 마스크의 타이트한 정렬을 보장하기 위해 다이 중심 (die-centering) 기능을 특징으로합니다. 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 는 직관적인 소프트웨어 인터페이스를 사용하여 모든 레이어의 반복 가능한 정확한 정렬을 위해 조정 가능한 매개변수를 제공합니다. M2-L (M2-L) 은 다양한 필름 유형과 기판을 지원하며, 각 응용 프로그램의 특정 요구 사항을 충족시키기 위해 쉽게 보정 될 수 있습니다. 또한 사용자는 다양한 프로그래밍 가능한 설정을 제공하여 정렬 정확도, 필름 두께, 난방, 전송 속도를 관리할 수 있습니다. LCD 터치패드를 사용하면 운영자가 장치의 여러 기능에 신속하게 액세스하고 모든 중요한 머신 (machine) 매개변수를 관리할 수 있습니다. M-2L 은 또한 장애 안전 장치 (failsafe mechanism) 를 사용하며, 이 메커니즘은 비상 사태의 경우 도구를 종료할 수 있습니다. 또한 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 에는 실시간 피드백을 요청할 수 있고, 잘못 정렬된 경우 마스크를 빠르게 이동할 수 있는 정렬 모니터가 내장되어 있습니다. 또한 MIKASA M-2L은 8, "12" 및 16 "마스크를 포함한 다양한 표준 저항 마스크와 다양한 비표준 크기를 지원합니다. 이 자산은 또한 스피너 (spinner), 핫 플레이트 (hot plate), 프린터 (printer) 와 같은 다양한 저항 처리 장비와 상호 작용하도록 설계되었습니다. M-2L은 photolithography 응용 프로그램에 적합한 선택 사항입니다. 이 모델은 저항 마스크 (Resist Mask) 와 컴포넌트 (Component) 를 정확하게 정렬 할 수 있으며, 직관적인 사용자 인터페이스와 조정 가능한 매개변수를 사용하여 매우 쉽게 사용할 수 있습니다. 강력한 광학 장비와 최첨단 장애 안전 (failsafe) 메커니즘은 정확한 패턴을 다양한 기판으로 신속하게 전송할 수 있도록 합니다.