판매용 중고 M & R NANO TECHNOLOGY AG2000‐ 8NDSAV #293598392

M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV 마스크 정렬기는 미세한 전기 및 광 회로 패턴을 반도체 기판 또는 웨이퍼로 정확하게 전송하는 데 사용되는 고성능 장비입니다. 이 마스크 정렬기는 사용자 친화적이며 비용 효율적입니다. 고급 알고리즘 (Advanced Algorithm) 과 소프트웨어 (Software) 를 활용하여 사용자는 회로 패턴을 빠르고 정확하게 정렬할 수 있으며, 정렬 프로세스와 결과도 모니터링할 수 있습니다. AG2000-8NDSAV는 최적의 정확도를 제공하며, 0.1 미크론의 정렬 반복 가능성으로 최대 12mm x 12mm의 패턴 크기를 허용합니다. 이것 은 "반도체 '집적" 회로' 와 부품 제조 를 위한 기판 생산 에 이상적 이다. 이 기계는 패턴을 정렬하기 위해 x-y 미세 정렬 축을 사용합니다. AG2000-8NDSAV는 고급 "간푸레" 프로젝션 렌즈와 고화질 카메라 시스템을 갖추고 있습니다. 이 장치는 또한 리소그래피 광학 장치 (lithography optics) 및 기타 구성 요소를 통합하여 사용자가 패턴을 기판에 정확하게 정렬 할 수 있습니다. 일단 "패턴 '이 정렬 되면 기계 는" 에너지' 광선 을 사용 하여 "패턴 '을 만들기 위하여 기판 으로" 패턴' 을 옮긴다. 에너지 빔 (energy beam) 노출 영역과 강도를 제어함으로써 공구는 패턴이 정확하게 전달되도록 합니다. 이 마스크 정렬자 (mask aligner) 는 또한 정교한 기판 가열 자산을 가지고 있으며, 이는 전체 리소그래피 프로세스 동안 웨이퍼 온도가 일관되게 유지됩니다. AG2000-8NDSAV의 또 다른 큰 기능은 "자동 샘플링 스캔" 입니다. 이 기능을 사용하면 전체 기판에서 스캔할 때 패턴 (pattern) 의 노출이 일관되고 균일합니다. 이 모델은 또한 데이터 기록 프로세스 (data-recording process) 를 쉽게 사용하여 노출 데이터를 저장하고 결과를 분석 할 수 있습니다. 또한, AG2000-8NDSAV는 강력한 진공 매니 폴드 설계를 통해 폐기물 가스 처리 및 에너지 효율성을 향상시킬 수 있습니다. 또한, 이 시스템에는 다양한 정렬 설정을 손쉽게 프로그래밍하고 사용자 정의할 수 있는 고급 (advanced) 프로그래밍 언어가 포함되어 있습니다. 결론적으로 M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV 마스크 정렬기는 강력하고 비용 효율적이며 사용자 친화적 인 장비로, 복잡한 기판 및 집적 회로를 생산하는 데 적합합니다. 이 기능은 사용자에게 정밀 패턴 정렬 (precision pattern alignment) 및 스테이지 셔터 제어 (stage shutter control) 기능과 자동 샘플링 스캔 기능을 제공합니다. 또한, 강력한 진공 매니 폴드 (vacuum manifold) 설계 및 데이터 기록 프로세스는이 마스크를 집적 회로 제조업체에 적합한 선택으로 만듭니다.