판매용 중고 KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9238375

KASPER/EATON/QUINTEL 2001은 다중 기가헤르츠의 고정밀 마스크 정렬 장치입니다. 집적 회로 (IC) 및 기타 미세 전기 기계 (MEMS) 장치의 합성을 위해 고정밀, 소형 기능 마스크 및 웨이퍼를 생산하도록 설계되었습니다. 이 최첨단 마스크 정렬기는 특허를받은 직접 이미징 기술을 사용하여 나노 미터 수준의 정확성을 달성합니다. EATON 2001에는 정밀한 격자에 배치 된 패턴 된 피쳐가 포함 된 포토 마스크가 장착되어 있습니다. 포토 마스크 (photomask) 는 웨이퍼 포지셔너 플레이트에 배치되며 고강도 울트라 바이올렛 (U.V) 광 방사선에 노출됩니다. 그런 다음 전동 정렬기를 사용하여 광선을 포토 마스크 플레이트에 집중시킵니다. 정렬은 매우 정확하고 정확하며, 웨이퍼에 매우 균일한 패턴 격자 (patterned grid) 를 생성합니다. 카스퍼 2001 (KASPER 2001) 은 고정밀 웨이퍼 스테퍼 시스템을 사용하여 웨이퍼 포지셔너 플레이트에서 웨이퍼를 한 지점에서 다른 지점으로 이동합니다. 이 정렬 프로세스는 반복 가능하며, 마스크 정렬자가 일관되게 고품질, 고해상도 이미지를 생성할 수 있습니다. 스테퍼 시스템은 분당 최대 100 분의 1 밀리미터의 속도로 작동하도록 설계되었습니다. 이렇게 하면 시스템이 매우 정확해지고 photomask 플레이트의 정확한 위치를 지정할 수 있습니다. QUINTEL 2001 마스크 정렬기는 또한 정확하고 반복 가능한 이미지 형성을 보장하기 위해 자동 초점 제어를 가지고 있습니다. 이 마스크 정렬기는 마스크 대 레티클 기능도 제공합니다. 이를 통해 사용자는 포토마스크 (photomask) 와 레티클 (reticle) 을 정렬하여 쉽게 고해상도 이미지를 생성할 수 있습니다. 2001 년은 많은 응용 프로그램에 적합한 다용도 및 고급 마스크 정렬기입니다. 이 강력한 기계는 마스크 제조, 사진 분석, 포토 마스크 플레이트 및 레티클 만들기, 마이크로 전자 테스트 플레이트 등에 사용될 수 있습니다. 이 제품은 고정밀도 및 고해상도 마스크 정렬 장치 (aligner system) 가 필요한 사람들을 위한 완벽한 솔루션입니다.