판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #9257920

ID: 9257920
Mask aligner.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-3은 직접 쓰기 전자 빔 리소그래피에 사용되는 마스크 정렬 자입니다. 전자 총, 정렬 단계, 웨이퍼 단계 및 기둥으로 구성됩니다. 전자 총은 집중된 전자 빔을 방출하는데, 이 전자빔은 10 나노미터 정도의 작은 선과 모양을 만들 수 있습니다. 정렬 단계 (Alignment Stage) 는 선택한 레티클을 웨이퍼에 대해 정확하고 반복 가능한 위치로 제자리에 고정시킵니다. 스테이지 (stage) 는 전자 빔 구조를 정확하고 정확하게 따르도록 최적화 될 수 있으며, 반복 가능한 노출이 가능하다. 정렬 단계 (alignment stage) 에 참조 렌즈를 추가하여 웨이퍼 (wafer) 에 전자 빔의 초점과 배율을 허용할 수 있습니다. 웨이퍼 단계는 기판, 저항 및 정렬 대상이 노출되도록 유지되는 곳입니다. 이 단계는 X 및 Y 축을 따라 높은 정밀도와 반복성을 갖습니다. 스테이지는 다양한 웨이퍼 (wafer) 크기에 맞게 구성할 수 있으며, 단일 세션에서 여러 웨이퍼를 스캔할 수 있습니다. 기둥에는 전자 빔에 초점을 맞춘 일련의 렌즈, 조리개 및 게이트 전극이 포함되어 있습니다. 이러한 컴포넌트는 빔의 모양, 크기, 강도를 최적화하여 밀도가 높은 환경에서도 패턴 (patterning) 데이터를 정확하게 수집할 수 있습니다. MICROTEC MJB3 (MICROTEC MJB3) 에는 강력한 소프트웨어 패키지가 장착되어 있어 정렬자를 제어하고, 복잡한 레이어를 정확하게 구성할 수 있습니다. 또한 환경 챔버 (environmental chamber) 로 구성하여 수증기, 습도, 열이 있으면 작동 할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 보다 정확하고 반복 가능한 노출을 만들 수 있습니다. 고급 정렬기, 정확한 웨이퍼 스테이지 및 강력한 소프트웨어의 조합으로 KARL SUSS MJB 3은 높은 처리량, 반도체 회로 및 장치의 고해상도 생산에 적합합니다. 기능의 조합은 또한 사용자 정의 패턴화 (patterning) 와 집적 회로의 프로토타입 (prototyping) 에 적합한 선택입니다.
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