판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #293586572

KARL SUSS/MICROTEC MJB-3은 자동 마스크 정렬 자로, 반도체 및 마이크로 일렉트로닉 산업의 리소그래피 프로세스에 널리 사용됩니다. 이 장치에는 광학 장치 (optical and a mechanical equipment) 가 장착되어 있어 마스크 정렬 및 오버레이 (overlay) 등록이 정확하고 일괄 처리를 위한 높은 수준의 정확성과 속도를 보장합니다. 정렬기는 광학 시스템과 동력 모터 구동 x-y 단계를 결합하여 마스크를 웨이퍼 (wafer) 와 관련하여 배치합니다. 광학 정렬 장치 (Optical Alignment Unit) 는 정렬 절차 중에 웨이퍼와 마스크의 잘못 정렬을 모니터링하고 감지하며, 마스크를 자동으로 이동시켜 맞춤을 잘못 정렬할 수 있습니다. MICROTEC MJB3의 반복 가능성은 0.5 nm 이상이되도록 설계되었습니다. KARL SUSS MJB 3에는 자동 로딩 머신 (automated loading machine) 이 장착되어 있어 단일 운영자가 반자동 방식으로 여러 마스크를 로드할 수 있습니다. 마스크는 순차적으로 또는 병렬로 로드할 수 있습니다. 또한 "얼라이너 '는 이중" 레이저' 를 사용 하여 적재 과정 중 기판 두께 변화 나 다른 요인 들 에 의한 오차 를 측정 함 으로써, 정렬 절차 의 정확도 를 동적 으로 향상 시킬 수 있다. MJB 3 (automated mask inspection) 은 자동 마스크 검사를 통해 마스크를 웨이퍼에 복사하기 전에 결함이 감지됩니다. KARL SUSS MJB-3은 광학 (optical) 또는 비광학 (non-optical) 노출 소스를 선택하여 노출 프로세스의 유연성을 제공합니다. 또한 맞춤형 노출 요구 사항을 위해 다양한 렌즈 옵션을 제공합니다. 이 장치는 석영, 단결정 실리콘, 포토 esist와 같은 많은 기질로 작동 할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC MJB 3에는 정렬 작업 및 노출 설정을 제어하는 소프트웨어가 제공됩니다. 이 소프트웨어에는 수동 정렬 (manual alignment) 및 마스크와 기판 사이의 중복을 추정하는 시뮬레이션 모드가 포함됩니다. 또한 추적 가능 레코드에 대한 배치 처리 (batch processing) 및 웨이퍼 정렬 결과를 이미지 캡처할 수 있습니다. MICROTEC MJB 3은 다른 반도체 제조 기계 (예: 레이저 스캐너 및 에처) 와 호환성이 높도록 설계되었습니다. 이 구성을 사용하면 여러 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있습니다. 또한 각 노출에서 노출 시간 연장 (Exposure Time) 또는 Z 좌표 선택 (Selectable Z Coordinates) 등의 기능을 제공하여 노출 프로세스를 최적화할 수 있습니다. 전반적으로 KARL SUSS MJB 3는 반도체 및 마이크로 일렉트로닉 산업의 리소그래피 (lithography) 프로세스에 이상적인 다양한 기능을 보유하고 있습니다. 높은 수준의 정확성, 반복 가능성, 속도, 그리고 노출 프로세스의 유연성을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장치는 또한 여러 기판을 처리 할 수 있으며, 다른 구성 기계와 호환성이 높습니다. MJB 3은 정밀하고 비용 효율적인 리소그래피를 위해 마스크 정렬기에 적합한 선택입니다.