판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA200 GEN3 #293816212

KARL SUSS/MICROTEC MA200 GEN3은 반도체 및 MEMS 산업의 고급 패턴 및 도량형 응용 분야를 위해 설계된 차세대 마스크 정렬 자입니다. 이 시스템은 광 스테퍼 시스템 (Optical Stepper System) 과 호환되는 자체 포함 설계를 통해 포토마스크, 엔지니어링 도면, 웨이퍼를 정확하고 효율적으로 정렬할 수 있습니다. 시스템 구성이 매우 용이하여, 개별 사용자의 고유한 요구 사항을 충족하는 맞춤형 (custom) 솔루션을 사용할 수 있습니다. MICROTEC MA200 GEN3은 자동 웨이퍼 처리를 위해 설계되었습니다. 이 기계는 포토리스 (photoresist), 유리 (glass), 금속 (metal) 을 포함한 다양한 기판을 패턴화하여 광범위한 장치 제작 및 테스트 방법을 가능하게합니다. 긴 수명의 직접 드라이브 스테핑 모터와 포지셔닝 스테이지가 특징이며, 정확한 부품 추적, 정렬, 배치를 제공합니다. 또한, 이 기계는 통합 노출 및 열 처리를 위해 사진 이미지 마스크, 웨이퍼 스테이지, 고출력 UV 광원 (UV Light Source) 과 같은 통합 컴포넌트 배열로 설계되었습니다. KARL SUSS MA200 GEN3는 또한 높은 정확도 도량형 기능을 제공합니다. 패턴 화 된 웨이퍼 스테이지에는 리소그래피 성능 평가를위한 이미징 소프트웨어가, 고해상도 카메라와 현미경은 고해상도 검사를 가능하게 합니다. 또한 정밀 평가 및 분석을위한 소프트웨어 제어 초점 및 확대/축소 옵션도 있습니다. 또한, 수동 및 자동 검사부터 고급 자동 도량형 (automated metrology) 기법에 이르기까지 다양한 테스트 및 검사 기능을 갖추고 있습니다. 머신은 반복 가능한 웨이퍼 배치를위한 진공 척 (vacuum chuck), 자동 스테이지 검사 옵션, 양면 노출 옵션 등 다양한 옵션으로 제공됩니다. 또한 로봇 암 로더, 카세트, 기판 캐리어 등 다양한 액세서리와 함께 사용할 수 있습니다. 시스템의 통합 소프트웨어 패키지 (Integrated Software Package) 는 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공하며, 데이터 로깅 및 분석 기능을 통해 효율적인 Jobsite 스케줄링 및 관리를 지원합니다. MA200 GEN3은 고급 마스크 정렬 및 도량형 요구에 이상적인 선택입니다. 광범위한 산업용/제작용 어플리케이션을 위한 매우 효율적이고, 정확한 처리 환경을 제공하도록 설계되었습니다. 견고한 성능과 뛰어난 구성성을 갖춘 KARL SUSS/MICROTEC MA200 GEN3는 탁월한 성능과 정밀도를 제공합니다.