판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 #9276692

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ID: 9276692
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2006
Mask aligner, 8" Main body UPS FT-1030 PC Keyboard Monitor Type: Gen2 Topside alignment with BSIR Function: Contact mode CIC1200 Lamp power supply: 1000 W 2006 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8은 마이크로 일렉트로닉스 업계에서 반도체 칩을위한 리소그래피 마스크를 만드는 데 사용되는 마스크 정렬 자의 한 유형입니다. 사진 처리를 위해 설계되었으며, 불평등 한 평면화의 기판을 처리하기 위해 저항합니다. MICROTEC MA8/BA8은 1 미크론 이상의 정확한 웨이퍼 대 마스크 정렬 정확도를 제공하여 고해상도 마이크로 전자 장치 제조에 적합합니다. KARL SUSS MA8/BA8은 프로젝터 장치와 정렬 장비로 구성된 마스크 정렬 자입니다. 프로젝터 장치는 최대 2 미크론 크기의 노출 지점을 투영 할 수있는 cw 레이저 다이오드 (cw laser-diode) 이며 피치가 최대 5 초까지 기판을 노출 할 수 있습니다. 정렬 시스템은 4축 스테퍼 모터 (4축 stepper motor) 로 구성되며, 이 모터는 기판 및 광원에 대해 마스크 위치를 조정할 수 있습니다. 이 장치에는 마스크를 쉽게 정렬할 수 있도록 2 축 수동 리프트 아웃 머신이 장착되어 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC MA8/BA8은 박막 트랜지스터 및 집적 회로용 고해상도 리소그래피 마스크 (lithography mask) 를 생산할 수 있으므로 반도체 업계에서 주로 사용되는 고정밀 마스크 정렬 자입니다. MICROTEC MA 8/BA 8은 필름 대 필름 기술을 사용하여 다른 석판화 마스크에 비해 더 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 필름 대 필름 (film-to-film) 기술은 마스크의 각 레이어가 기판에 맞게 완벽하게 정렬되도록 하며, 따라서 사용자는 최소 너비와 최소 크기 (몇 나노미터) 의 마스크를 생성할 수 있습니다. 또한, MICROTEC MA8/BA8은 중점 레이저 노출 도구를 사용하여 기판의 노출 지점 및 패턴 위치를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이렇게 하면 다른 마스크 정렬기 (mask aligner) 시스템으로는 생산할 수 없는 매우 복잡한 패턴을 생성할 수 있습니다. KARL SUSS MA8/BA8은 반도체, 바이오 테크 산업 등 여러 산업에 사용되는 강력하고 다재다능한 마스크 정렬자입니다. 회로 기판 설계 (Circuit Board Design) 에서 의료 테스트 (Medical Testing) 에 이르기까지 다양한 응용 프로그램에 사용되는 고품질 리소그래피 마스크 (Lithography Mask) 를 생성 할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC MA8/BA8은 효율적이고 비용 효율적인 마스크 정렬기로, 높은 정확도로 고해상도 패턴을 생산할 수 있는 기능을 사용자에게 제공합니다.
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