판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293812008

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3은 신뢰성, 정확성 및 효율성이 높은 차세대 마스크 정렬 자입니다. 이 장치는 나노 미터 스케일 정밀도로 기판과 정확하게 에치 (etch), 패턴 (pattern) 또는 형태 레이어 구조 (form layer structure) 의 표면 위에 photomask를 배치하고 정렬하는 데 사용되는 다목적 장치입니다. 이 장치는 종종 마이크로 일렉트로닉 장치 제조, 표면 엔지니어링, 광학 또는 광전자 장치 제조 및 기타 분야에 사용됩니다. MICROTEC Aligner에는 365nm의 파장에서 작동하는 고급 광학 장비가 장착되어 있습니다. 이 시스템은 레이저 다이오드, 공간 필터, 회절 격자, 균일 한 조명을위한 위상판으로 구성됩니다. 1.5 초에서 15 초 사이의 노출 시간, 1.5 음 미만의 반복 가능한 노출 등 다양한 노출 설정이 가능합니다. 레이저 스팟 크기는 5-60 um (um) 에서 조정할 수 있으므로 photomask 기능 내에서 정확하고 반복 가능한 정렬이 가능합니다. 장치 직관적인 터치 스크린 제어판은 프로그래밍 작업을 단순하고 편리하게 합니다. KARL SUSS Aligner는 정확성과 신뢰성을 위해 설계되었습니다. 통합 선형 액추에이터는 기판의 정확하고 반복 가능한 배치를 보장하는 반면, CAD-to-Glass 정렬 장치는 최대 5 nm의 정렬 정확도를 허용합니다. 빠른 구입 시간이 30ms 인 고정밀 M1 정렬 머신은 접촉하지 않고 빠르고 안정적인 정렬을 제공합니다. 이 장치는 또한 강력한 이미지 처리 모듈 (fiducial alignment 및 quality control) 을 초 단위로 자동화할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC Aligner는 다양한 액세서리 및 옵션과 통합되어 정확도, 속도, 신뢰성을 향상시킵니다. 이 제품은 AutoMask 와 같은 최신 소프트웨어와 호환되며, 이 소프트웨어는 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공합니다. 또한 Nano-Fiducial Control과 같은 혁신적인 기술을 통합하여 패턴 정확도를 향상시킵니다. 또한, 다양한 모양의 웨이퍼, gel/pigmented polyimides 및 유연한 기판과 같은 교환 가능한 기판 및 진공 액세서리 배열과 호환됩니다. MICROTEC Aligner는 뛰어난 성능, 정확성 및 신뢰성을 제공합니다. 고급 광학 도구, 정밀 구성 요소, 직관적인 소프트웨어로 인해 photomask aligner를 선택할 수 있습니다. 마이크로일렉트로닉 장치, 광전자 (optoelectronics), 표면 엔지니어링 (surface engineering) 및 기타 정밀 엔지니어링 응용 프로그램을 포함한 다양한 장치 제작 프로세스에 이상적입니다.