판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293800513
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ID: 293800513
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2017
Mask aligner, 8"
Alignment functions:
Top Side Alignment (TSA)
Bottom Side Alignment (BSA)
Substrate size: Up to 8“ x 8”
Resolution: 0.5 µm
BSA Alignment accuracy: <1 µm
Alignment gap programmable: 1 to 100 µm
Mask aligner mode: X ±5.0 mm, Y±5.0, Θ±5°
Bond aligner mode: X ±3.0 mm, Y±3.0, Θ±3°
Motorized stage: 0.1 µm
LH1000 Exposure unit
LH1500 Lamp housing unit
PLC Control with LCD Display
Operating system: Windows GUI
2017 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3은 생산 실행에서 웨이퍼를 빠르고 정확하게 노출하는 데 사용되는 완전 자동화 된 마스크 정렬 자입니다. 이 장치는 처리량 스피너, 정확한 패턴 등록 장비 및 고성능 폴리 이미 드 저항 시스템으로 구성됩니다. MICROTEC MA8BA8-GEN3의 처리량 스피너 (Throughput Spinner) 는 시간당 최대 8개의 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 스피너는 매우 정확한 속도 제어 장치 (Speed Control Unit) 를 사용하여 일관되고 안정적인 노출을 보장합니다. 또한, 스피너는 특허를받은 3D 자동 초점 기능 (3D auto-focus feature) 으로 초점 깊이를 정확하게 제어 할 수 있으며, 기판에서 상당한 위치 오류를 추적하고 수정하는 fiducial-tracking machine도 포함합니다. KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3의 패턴 등록 도구는 웨이퍼에 미세 패턴을 빠르고 완벽하게 등록하도록 설계되었습니다. 이 장치에는 에지 감지 에셋 (edge detection asset) 과 이미지 스티치 백 (stitch-back) 캡처 모델이 장착되어 있어 고정밀 정렬 성능을 제공합니다. 또한, 일련의 고해상도 줌 (zoom) 옵틱을 사용하면 패턴을 정확하게 조사하여 품질 조정을 보장할 수 있습니다. MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3의 폴리 이마이드 저항 장비는 다양한 저항 및 기질로 웨이퍼를 노출시키기 위해 설계되었습니다. 이 장치에는 강도 (intensity), 노출 영역 (exposure area), 해상도 (resolution) 등 다양한 가변 노출 매개변수가 장착되어 있어 어플리케이션의 유연성이 뛰어납니다. 또한 잔류 대기 입자 오염을 정확하게 제어하는 고급 오염 제어 시스템 (Advanced contamination-control system) 이 장착되어 있습니다. MA8BA8-GEN3 (MA8BA8-GEN3) 는 비용 효율적이고 신뢰할 수 있는 마스크 정렬기로, 다양한 기판 및 저항을 위한 고정밀도 패턴 정렬의 프로덕션 실행을 위해 설계되었습니다. 즉, 스루푸트 스피너 (throughput spinner) 를 사용하여 신속하게 처리할 수 있으며, 정확한 패턴 등록 및 폴리이마이드 저항 시스템은 섬세한 패턴의 품질 조정을 보장합니다. 마지막으로, 이 장치에는 프로세스 균일성을 향상시키기 위해 고급 오염 제어 장치도 포함되어 있습니다.
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