판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293609808
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ID: 293609808
Mask aligner
Movement range mask aligner mode: X +/-5.0mm, Y +/- 5.0mm, Theta +/-5°
Movement range bond aligner mode: X +/-3.0mm, Y +/- 3.0mm, Theta +/-3°
Zero position:
Machine base frame: Mechanical, pneumatic, electrical 230V 50/60Hz
Joystick X/Y- and THETA for alignment stage control
TSA Microscope stage with manual / Motorized X-Y-manipulator and rotation
Integrated microscope tilt
BA function:
Manual loading and unloading
PLC Control with LCD display
WINDOWS GUI
Wafer 3" up to 200 mm diameter for bond application
Operator manual
For BSA microscopes with working distance 33mm
Adaption kit Included for constant dose exposure mode
Implemented tooling rack for tooling storage
Qty / Part number / Description
(1) / G206986 / Mask and bond aligner
(1) / 100002005 / Pneumatic expansion kit (BA/UV-NIL/SCIL/SMILE)
(1) / G207694 / Housing TSA/BSA
(1) / 100002830 / Alignment stage WD-33/MOT/A-200
(1) / G207720 / Operation desk mot
(1) / G206685 / M608 Microscope lift mot
(1) / 100000786 / M608 Visual / Screen splitfield microscope / AL400
(2) / G156881 / Turret
(2) / G145984 / Single objective umpl FL 5X/0.15
(1) / G206017 / Exposure unit LH1000
(1) / G179183 / Lamp adapter LH1000/1000W
(1) / G202518 / Lamp power supply unit cic 1200/LH1000
(1) / G206080 / OPTICS UV400/HR/W-200/LH1500
(1) / G206829 / 2 Channels light-sensor 365/405NMFORCIC
(1) / 100018553 / Adapter system for maskholder
(1) / 100008204 / Mask holder
(1) / 100020052 / Mask holder BL/PROX/CONT/M-7-9/W-150.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3은 광석기 응용 프로그램을위한 고정밀, 고정밀도 마스크 정렬 자입니다. 이 장치는 마스크 정렬, 웨이퍼 노출 및 리프트 오프 프로세스 (주로 정밀 마이크로 회로 및 사진 분석 마스크 생산) 를 수행합니다. 2차원, 2축 마이크로 드라이브를 장착한 MICROTEC MA8BA8-GEN3 마스크 정렬기는 높은 밀도의 정렬을 통해 시간이나 노력을 희생시키지 않고 최고 수준의 정확도, 정확도, 정밀도를 제공할 수 있습니다. KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3은 자동 사전 정렬 된 등록 및 고급 초점 제어와 같은 고급 기능으로 최대 8 미크론 해상도를 사용할 수 있습니다. 또한 마스크 정렬기는 드라이버가 없으며 광학 정렬을 통해 고정밀 (high-precision) 포지셔닝이 가능합니다. 이 장치는 최적화 된 박글라스 처리 메커니즘으로 박막 (thin film) 과 같은 특수 재료를 지원합니다. 또한, 가변 정렬 속도 및 각도 조정으로 KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3은주기 시간을 줄이고 초점 변동성을 막을 수 있습니다. 수정 목적과 그 이후에는 일련의 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphic User Interface) 가 특징으로, 마스크 정렬기의 최적화 및 문제 해결에 도움이 됩니다. 여기에는 작업 전과 프로세스 중에 정확한 정렬 결과를 제공하는 그래픽 시뮬레이션 (graphic simulation) 기능이 포함됩니다. 더 높은 정확도를 보장하기 위해 KARL SUSS MA8BA8-GEN3 마스크 정렬기는 비 접촉 비 접촉 깊이 측정 시스템을 포함한 여러 검사 및 교정 위치도 지원합니다. 최대 6 개의 CCD 카메라를 수용 할 수있는 MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3은 일괄 처리 또는 단일 웨이퍼 응용 프로그램에 적합합니다. 또한 레이저 정렬 개선을위한 열 분산이 적은 터렛 장착 뷰포트 (turret-mounted viewports) 와 손쉬운 정렬을위한 회전 조이스틱 (rotating joystick) 이 특징입니다. 마스크 정렬기는 MICROTEC SuperMultiDrive 소프트웨어로 구동되며, 모든 표준 열, 전자 빔 및 광학 리소그래피 시스템과 호환됩니다. 비교할 수없는 정확성과 정밀도로 MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3 마스크 정렬기는 포토 마스크 및 웨이퍼 노출 모두에 우수한 리소그래피 결과를 제공합니다. 우수한 웨이퍼 처리 기능을 제공하는이 장치는 모든 마이크로 전자 설비에 필수적인 도구입니다.
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