판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #293744976

KARL SUSS/MICROTEC MA 56은 photolithography 프로세스에 사용되는 고급 광학 마스크 정렬 자입니다. 다양한 크기, 모양, 재료를 갖춘 고품질 포토마스크 (photomask) 제작이 가능하도록 설계된 다용도 장비다. 다양한 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 및 반도체 공정에 적합한 고해상도, 비용 효율적인 마스크 정렬을 위해 특별히 설계되었습니다. 이 시스템은 마스크 패턴을 200mm x 200mm 정렬 필드에 0.02 미크론의 정확도로 스캔하는 고급 인라인 스테퍼 스캐너 (in-line stepper-scanner) 를 사용합니다. 스캔을 동적으로 수정하여 스캐너 배율을 높이거나 판독 소음을 줄일 수 있습니다. MICROTEC MA56에는 두 개의 개별 단계가 있습니다. 한 단계 (stage) 는 정렬에 사용되고 다른 단계 (stage) 는 동일한 마스크 패턴을 동시에 스캔합니다. 이 장치 는 또한 "마스크 '무늬 를 디지털 으로 변조 된 광원 과 함께 관찰 할 수 있는" 온보드' 현미경 을 가지고 있어서, 가장 작은 결함 이나 오정 조차 감지 할 수 있다. 이 기계는 자동 방향 보상 (Automatic Orientation Compensation) 및 고급 정렬 도구 (Advanced Alignment Tools) 와 같은 다양한 옵션을 제공하여 안정적이고 정확한 마스크 수리 또는 교정을 보장합니다. 또한 "정렬-자유 (Alignment-Free)" 모드라는 특수한 정렬 기능이 있어 정렬 프로세스 중 연산자 개입이 필요하지 않습니다. KARL SUSS MA-56 툴은 또한 기존 반도체 프로세스 자동화 시스템과의 손쉬운 통합을 위해 MCSX, C++, MATLAB 등의 업계 표준 프로그래밍 플랫폼과 결합 할 수있는 강력한 자동화 도구 세트를 갖추고 있습니다. 에셋은 또한 이미지 처리, 스레딩, DRC/DFM 검사 (옵션) 와 같은 옵션 기능을 지원하여 마스크 패턴의 정확한 위치를 지정하여 반도체 장치의 정확한 요구 사항을 충족시킵니다. KARL SUSS/MICROTEC MA56은 다양한 플랫폼이며 멀티 칩 및 칩 스태킹에서 고해상도 레티클, 광전자 및 웨이퍼 레벨 패키지에 이르기까지 모든 유형의 마이크로 일렉트로닉 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 정밀 정렬, 비용 절감, 신뢰성 등을 제공하기 때문에 마이크로 일렉트로닉스 제조업체에 의해 높은 평가를 받았습니다.