판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #119483

KARL SUSS/MICROTEC MA 56은 photolithography 프로세스를 위해 설계된 자동 마스크 정렬 자입니다. 초정밀, 레이저 기반 투영 정렬 장비를 사용하여 리소그래피 프로세스 중 웨이퍼 (wafer) 의 기판에 마스크를 정렬하는 정확도를 높입니다. MICROTEC MA56 (MICROTEC MA56) 은 논리 및 메모리 어플리케이션을 포함한 고밀도 반도체 장치의 제작을 위해 설계되었으며, 장치 정렬에 대한 서브 미크론 수준의 정확성을 제공 할 수 있습니다. KARL SUSS MA-56에는 다양한 포토마스크 정렬 어플리케이션 (photomask alignment application) 을 위한 탁월한 선택이 가능하며, 사용자는 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다. 대형 8 인치 마스크 (8 인치) 필드가 장착되어 있으며, 소형 마스크, 대형 마스크 등 다양한 크기와 기하학을 수용할 수 있는 충분한 공간을 제공합니다. 또한 KARL SUSS MA56에는 2 개의 독립적 인 투영 정렬기가 있으며, 둘 다 서브 미크론 정확도와 스팟 온 정렬을 제공 할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC MA-56은 특정 운영 요구에 맞게 시스템을 사용자 정의할 수 있는 모듈식 설계를 갖추고 있습니다. 이 "렌즈 '는 매우 다양 한" 렌즈' "옵션 '과 함께 제공 되며, 각" 렌즈' 는 해상도 와 초점 깊이 와 같은 특정 한 "응용프로그램 '에 자체 의 유익 을 준다. 이 장치에는 다층 정렬용 광학 빔 콤비너 (optical beam combiner for multilayer alignment), 패턴 결합용 스캐너 (scanner for pattern combining), 다양한 파장 레이저를 사용하는 정렬을위한 다양한 투영 목표 (projection objective) 등 다양한 옵션 컴포넌트가 있습니다. MICROTEC MA-56은 최대 6 개의 마스크를 저장할 수 있으므로 다른 포토 마스크 세트를 빠르게 전환할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC MA56은 웨이퍼 처리 기계를 사용하여 정확한 웨이퍼 세트를 홀더에 정확하게 배치합니다. 이 도구에는 서피스의 반사도 (reflectivity) 와 스캐너 오류를 신속하게 보완하는 자동 반사 정렬 (auto-reflective alignment) 기능도 있습니다. 또한, KARL SUSS MA 56은 성능 및 정확도 향상을 위해 자동 간격 센서, 진공 구멍 조정과 같은 고급 옵션으로 업그레이드 할 수 있습니다. 미크로텍 MA 56 (MICROTEC MA 56) 은 마스크 정렬 기능이 뛰어나므로 다양한 기판에 대한 정확한 조건을 제공합니다. 즉, 정확한 온도, 습도 모니터링 자산을 활용하여, 최적의 조건에서 장치를 제작할 수 있습니다. MA 56 (MA 56) 은 화학적으로 민감한 환경에서 장비가 가동될 때 장비의 작동과 관련된 사고를 방지하는 고급 안전 (advanced safety) 모델도 탑재했다. 전반적으로, MA-56은 고밀도 반도체 장치의 정확한 마스크 정렬에 적합한 선택입니다. 마이크론 이하의 정확도와 제어를 제공할 수있는 고급 투영 정렬 (advanced projection alignment) 시스템이 장착되어 있습니다. 또한, MA56 은 다양한 기능과 구성요소 (component) 를 통해 다양한 요구 사항에 맞게 사용자 정의할 수 있으며, 또한 다양한 기판에 대해 정확한 조건을 제공합니다.