판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 4 Series III BSA #293639816
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ID: 293639816
웨이퍼 크기: 4"
Mask aligner, 4"
Lamphouse: 1000 Watt
Wafer chuck: Configured for 2"
Optics: 365nm (NUV)
CIC Power supply: CIC 500 constant intensity controller.
KARL SUSS/MICROTEC MA 4 Series III BSA는 고급 반도체 처리 응용 분야에 사용하도록 설계된 고정밀 마스크 정렬 자입니다. 이 장치에는 가장 정확하고 반복 성을 위해 쿼츠 마스크 (quartz mask) 가 비어 있는 균일 한 표면 광학 장비가 있습니다. 최대 200mm (특수 주문 기준) 의 웨이퍼를 수용 할 수 있으며, 최대 40mm 두께의 기판을 노출 할 수 있습니다. MICROTEC MA 4 Series III BSA에는 고유 한 x-y-i 트리플 정렬 시스템을 사용하여 웨이퍼 또는 마스크 공백의 각도 및 x-y 위치를 정확하게 제어하는 교정 나노 미터 스테이지가 장착되어 있습니다. 4 포인트 상하 접촉 (Top and Bottom Contact) 메커니즘은 광 노출이 전체 노출 영역에서 중심적이고 일관성을 보장합니다. 이 장치에는 또한 4 개의 확산 챔버 (diffusion chamber) 를 사용하여 노출 중 공기 난류 및 온도 변동을 감소시켜 더 높은 노출 용량, 감소 된 시트 저항 및 향상된 수율을 허용하는 독특한 공기 흐름 장치가 있습니다. 그 에 더하여, 기계 는 고도 의 액체 및 입자 제거 기술 로 오염 의 위험 을 감소 시키도록 설계 되었다. 그렇다. 따라서 품질, 정확성과 더불어 과도한 전력 소비를 줄일 수 있습니다. KARL SUSS MA 4 Series III BSA는 또한 정렬 정확도를 향상시키기 위해 설계된 고급 광학 도구를 갖추고 있습니다. 높은 정확도 패턴 인식을위한 레이저 패턴 레티클 (laser patterned reticle) 과 상단 및 하단 노출 용 양면 노출이 특징입니다. 또한 4 축 노출 기능이 있으며 성능 향상을 위해 고급 광 필터 (optical filter) 가 장착되어 있습니다. 자산은 또한 안전을 염두에두고 설계되었습니다. 안전 인터 록 (Safety Interlock) 은 운영 중 노출 챔버 (Exposure Chamber) 와 같은 위험한 영역에 들어가는 것을 방지하기 위해 안전 인터 록 (Safety Interlock) 을 갖추고 있으며, 잠재적 인 위험 또는 노출 문제에 대해 사용자에게 경고하는 가청 및 시각 경보를 제공합니다. MA 4 Series III BSA는 고급 반도체 처리를 위해 전문적이고 정확한 마스크 정렬을 제공하도록 설계되었습니다. 이 제품은 지속적으로 정확한 노출을위한 고급 광학 (optic) 과 교정 기술, 오염을 예방하는 오염 방지 공기 흐름 모델을 갖추고 있습니다. 또한 안전 인터 록 (Safety Interlock) 과 최대 안전 및 보호를 위한 경보를 제공합니다.
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