판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 4/6 #9258606

ID: 9258606
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1993
Mask aligner, 6" Substrates, 6" x 6" M206 / M236 Split field microscopes Objectives: 5x, 10x, 20x Eyepiece Magnification: 10x Micrometer spindles UV Ranges with optimized diffraction reducing systems Splitfield topside microscope with turret C-Mount for IR camera adaption Alignment stage with loaded IR chuck IR Illuminators and tube stage for target positioning IR Tubes Spare parts Tool kit X-Drive IR Tool: Chuck Maskholder Spacers for maskstage clamp Stage: X, Y Theta Z Alignment Wedge error compensation Microscope manipulator with adapter Movement synchronized with alignment Lamp house LH 1000: 350 W / 1000 W lamp With optical tube and mirror house / Eclipse mirror CRT Display Serial dialog operator interface Substrate size: 1" x 1" - 4" x 4", Pieces Mask size: 7" x 7" Exposure system: Vacuum contact and proximity Gas separation: 0-90 um Gas adjustment resolution: 1 µm Contact pressure: 0.02 - 1.0 N/cm² Exposure optics: Wavelength / Range / Source UV400 / 350 mm - 450 mm / 1000 W Hg UV300 / 208 mm - 350 nm / 1000 W Hg Alignment: Top Side Alignment (TSA) Accuracy: TSA down to 0.5 µm Back side alignment Accuracy: BSA down to 1.5 µm Alignment stage: Alignment range X: ±5 mm Alignment range Y: ±5 mm Alignment range θ: ±3° Mechanical resolution XYθ: 0.05 μm UV400 With high peak intensity at 365nm and 405 nm Exposure area: 6" CIC500 for 350W HBO Maximum intensity at 365nm: 19 ±4% mW/cm² Maximum intensity at 405nm: 30 ±4% mW/cm² Power supply: 110 V / 220V, 50/60 Hz, 1500 W 1993 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 4/6은 범용 마스크 정렬기로, 기판에 마이크로 스케일과 대규모 기능을 패턴화하는 매우 정확한 방법을 제공합니다. 이 고급 기술은 인쇄 회로 기판 (printed circuit board) 에서 금속 산화물 반도체 (MOS) 제작에 이르기까지 모든 응용 프로그램에 중요한 복잡한 패턴을 만드는 데 도움이됩니다. MICROTEC MA 4/6 (MICROTEC MA 4/6) 은 ± 2äm에서 ± 20äm까지의 다양한 정렬 정확도를 특징으로하며, 복잡하고 고급 패턴을 만들 때 가장 높은 정렬 표준에 도달 할 수 있습니다. 이 설계에는 나놀리토그래피 (nanolithography) 응용 프로그램의 중요한 요소 인 패턴화 (patterning) 필드의 최적의 위치와 조작을 제공하는 12축 포지셔닝 장비도 포함됩니다. KARL SUSS MA 4/6에는 광학 및 웨이퍼 테이블의 총 안정성을 제공하는 긴 수명 '에어 버블 프리 (Air Bubble Free)' 버블 시스템이 장착되어 있으며, 수년 동안 최고 수준의 반복 가능한 결과를 제공합니다. 렌즈 이미징은 긴 수명, 낮은 전력 소비 고 NA 광학 시스템에 의해 제공됩니다. 여기에는 직경 20발에서 30발로 조정 할 수있는 가변 시야가 포함됩니다. 또한 KARL SUSS/MICROTEC MA 4/6은 사용 편의성을 위해 온유닛 지원, 사용자 친화적 전면 패널 메뉴 및 PC 통합을 제공합니다. 이 기계에는 전면 사전 정렬 모듈, 이미지 분석 기능 및 입자 모니터링 도구가 장착되어 있습니다. 노출 된 웨이퍼 서피스는 치수 정밀도를 측정하여 패턴과 정확하게 정렬되도록 합니다. 또한 9 월-퍼지 (Sep-Purge) 또는 터보 퍼지 (TurboPurge) 와 같은 액티브 가스 퍼지 시스템 (Active Gas Purging System) 도 선택되어 까다로운 작동 조건을 보장합니다. 결론적으로, MICROTEC MA 4/6은 정확한 이미징이 필요한 다양한 응용 분야에 적합한 고정밀 마스크 정렬기 모델입니다. 정확도, 12 축 포지셔닝 장비, 긴 수명 거품 시스템, 탁월한 광학 장치로 인해 나놀리토그래피 (nanolithography) 애플리케이션에 이상적인 솔루션이 될 수 있습니다. 이 시스템은 또한 사전 정렬, 이미지 분석, 온 유닛 지원, PC 통합, 입자 모니터링 등의 기능을 제공하여 사용 편의성을 높이고 매우 정확한 결과를 얻을 수 있습니다.
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