판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA-210 AA #293654297

KARL SUSS/MICROTEC MA-210 AA Mask Aligner는 다양한 전자 장치를 만드는 리소그래피 프로세스에 사용되는 고급 기기입니다. 그것 은 "포토마스크 '를 만드는 데 사용 되는데, 이것 은 반도체" 웨이퍼' 에 매우 정밀 한 무늬 를 만드는 데 사용 된다. MICROTEC MA-210 AA Mask Aligner에는 UV 투영 장비와 2 차원 (XY) 단계의 두 가지 주요 구성 요소가 있습니다. UV 투영 시스템에는 DUV 광학 타원체 반사기, 전원 공급 장치 및 밀봉 된 UV 엑시머 레이저가 포함됩니다. "레이저 '는 248" 나노미터' 파장 의 빛 을 내는데, 이 파장 은 반사체 에 의해 조화 되어, 원하는 "웨이퍼 '층 에 투영 될 수 있는" 포토마스크' 의 정확 한 영상 을 만들어 낸다. 이미지 크기는 0.25mm에서 12mm 사이이며 해상도는 0.25m입니다. "마스크 '와" 웨이퍼' 층 의 정확 한 정렬 을 위하여 10 배 내지 50 배 의 배율 을 제공 하는 현미경 도 포함 된다. KARL SUSS MA-210 AA Mask Aligner의 XY 단계는 DC 모터에 의해 구동되며 3 가지 수동/자동 작동 모드를 제공합니다. 수동 모드에서는 조이스틱 (joystick) 과 디지털 디스플레이 (digital display) 로 스테이지를 수동으로 제어하여 최대 0.2mm 정확도를 제공합니다. 자동 모드에서, 스테이지는 반복 성과 정확도 0.1mm, 다양한 작업에 대해 프로그래밍 될 수 있습니다. "마스크 '와" 웨이퍼' 층 의 정밀 한 정렬 을 위해 반사 된 "레이저 '광선 을 탐지 하기 위하여 중첩 측정 장치 를 사용 할 수 도 있다. MA-210 AA Mask Aligner는 전자적으로 변조 할 수있는 3 개의 V 그루브 시스템을 갖춘 자동 웨이퍼 정렬 기계를 갖추고 있습니다. 통합 웨이퍼 리프트 (Wafer Lift) 도구를 사용하면 최대 200mm 직경의 최대 200개 웨이퍼를 효율적으로 로드하고 언로드할 수 있으며, 리토그래피 (Lithography) 공정에서 높은 효율성과 생산성을 제공합니다. KARL SUSS/MICROTEC MA-210 AA Mask Aligner는 프로그래밍 가능한 컴퓨터 인터페이스를 통해 레이저 전원 및 검출기 신호를 포함하여 정렬기의 모든 측면을 소프트웨어 제어할 수 있습니다. 여기에는 여러 가지 안전 기능 (예: UV 광학 자산의 셔터) 이 포함되어 있으며, 정렬기의 무단 사용을 방지하기위한 인터록 (interlock) 모델이 포함됩니다. 요약하자면, MICROTEC MA-210 AA Mask Aligner는 반도체 장치의 제조에 사용되는 고정밀 광도 마스크를 만드는 고급 도구입니다. 고급 UV 투영 장비, 2 차원 XY 단계, 자동 웨이퍼 정렬 시스템 및 프로그래밍 가능한 컴퓨터 인터페이스가 특징입니다. KARL SUSS MA-210 AA Mask Aligner는 여러 가지 안전 기능뿐만 아니라 반복성과 정확성을 제공함으로써 반도체 부품의 성공적인 제작에 기여할 수 있습니다.