판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9238413

KARL SUSS/MICROTEC MA 200은 다재다능하고 정밀 설계 된 마스크 정렬 자입니다. 균일성과 반복성이 높은 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 를 정확하고 반복적으로 정렬할 수 있습니다. 이 장치를 사용하면 최대 880 mm 직경의 마스크에 최대 200 mm 직경의 기판을 정확하게 정렬 할 수 있습니다. MICROTEC MA200은 생산 석판화를 위해 설계되었습니다. 간편한 사용자 친화적 인터페이스를 통해 사용자가 원하는 정렬 (Alignment) 및 노출 (Exposure) 매개변수를 빠르게 프로그래밍할 수 있습니다. 기계를 제어하는 소프트웨어는 강력하고 이해하기 쉽습니다. 또한 프로그램 저장 기능, 조명 장비 자동 조정, 미세 튜닝 (Fine-Tuning) 을 위한 운영자 보조 (Operator Assistant) 와 같은 고급 기능도 제공합니다. KARL SUSS MA-200은 반도체 웨이퍼 및 기타 기판의 정밀 정렬 및 노출을 보장하기 위해 고급 정밀 광학 및 전자 제품 어레이를 사용합니다. 광학은 구리-증기 레이저 빔 및 스테퍼 모터 구동 렌즈 시스템을 사용하여 정확한 정렬을 제공합니다. 최대 30 nm 정밀도의 전동 웨이퍼-마스크 정렬 장치 (Motorized Wafer-to-Mask Alignment Unit) 는 가면에 대한 기질의 반복 가능하고 정확한 정렬을 보장합니다. 또한 optics는 측면, 높이 및 측면 기울기 보정, 비접촉 웨이퍼-마스크 프로파일 매칭이 가능합니다. MA-200은 또한 웨이퍼-마스크 교환 및 대형 렌즈 처리를위한 자동 마스크 처리 머신 (automated mask handling machine) 을 갖추고 있습니다. 웨이퍼-마스크 교환은 엘리베이터 (elevator) 도구를 사용하여 수행되며, 진공 자산은 웨이퍼와 마스크를 정확하게 고정하고 방출합니다. 고급 광학은 온도 및 습도 조절 (temperature and hidity control) 환경에서 생활하여 리소그래피 프로세스를 최대한 보호합니다. KARL SUSS MA200은 생산 마스크 관행을 위한 효율적이고 비용 효율적인 솔루션을 제공하여 시간당 최대 16 웨이퍼 (wafer) 의 속도로 웨이퍼 기판을 정밀 정렬 및 노출시킵니다. 이 모델은 대용량 운영 애플리케이션에 이상적입니다.