판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #9395014

KARL SUSS/MICROTEC MA-150은 일반적으로 미세 제조 과정에서 나노 구조를 기판에 정렬하고 노출시키는 데 사용되는 마스크 정렬 자입니다. nanofabricated pattern, electron beam components 및 semiconductor components와 같은 구조를 기판에 노출 할 수 있습니다. 마이크로텍 MA150 (MICROTEC MA150) 은 기질에 대한 마스크의 정확한 정렬과 나노 구조에 원하는 영역의 정확한 노출을 제공한다. KARL SUSS MA 150에는 microfabrication에 이상적인 도구가 있습니다. 위치 정확도가 높고 반복 성이 뛰어난 고정밀 기계입니다. 고정 빔 스플리터 (beamsplitter) 와 스테퍼 모터 스캐닝 (stepper-motor scanning) 장비를 사용하여 마스크를 정렬하고 원하는 나노 구조를 정확하게 노출시킵니다. 또한 정확한 처리 매개 변수를 보장하기 위해 제어 소프트웨어가 내장되어 있습니다. MA-150은 온도 조절이 우수하며, 노출 물질에 따라 밀리초 (밀리초) 에서 분 (분) 사이의 노출 시간을 제공합니다. 이 기계는 프로그래밍 가능한 자동 노출을 제공하며 복잡한 패턴을 제작하기 위해 다른 노출 시퀀스를 지원합니다. 또한, 개방형 아키텍처 설계를 통해 다른 구성 요소를 시스템에 통합 할 수 있습니다. MA150에는 300-W xenon 아크 램프, 150-W 텅스텐 램프, CLD (Coherent Laser Diode) 레이저 다이오드 및 레이저 직접 쓰기 (LDW) 노출 헤드를 포함한 다양한 노출 소스가 제공됩니다. 노출 소스는 젖은 판과 마른 판 사이에서 자동으로 전환 될 수 있습니다. 정렬 장치 (alignment unit) 는 1 미크론의 해상도에서 정확한 노출이 가능하며, 정렬 챔버는 진공 상태를 유지하기 위해 밀봉됩니다. KARL SUSS/MICROTEC MA 150은 또한 반도체 재료, 포토 esist 재료, 복합 재료 등을 포함한 다양한 재료를 지원합니다. 이 기계는 표준 마스크 (standard mask) 와 여러 가지 고급 마스킹 기술을 사용할 수 있습니다. 이 도구는 또한 다양한 저항 개발 솔루션 (Resist Development Solution) 을 지원하며, 여러 프로세스를 단일 노출 시퀀스로 통합 할 수 있습니다. KARL SUSS MA150은 소규모 전자 부품 생산을 위한 비용 효율적이고 사용자 친화적 인 마스크 조정기입니다. 정확성과 정밀도는 마이크로 패브라이션 프로세스에 이상적인 도구입니다. 이 에셋은 다양한 노출 소스 (Exposure Source) 와 재료 (Material) 를 지원하도록 설계되었으며, 구조물의 정확한 정렬 및 노출을위한 효율적인 프로세스를 제공합니다.