판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #9389834

KARL SUSS/MICROTEC MA-150은 전문적인 등급의 자동 마스크 정렬 기이며, 집적 회로의 매우 정교하고 복잡한 fab 공간에서 정확한 photolithography 작업을 수행하도록 설계되었습니다. 이 정렬자는 견고하고, 정확하며, 모듈식이며, 다양한 사용자 요구 사항에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. MICROTEC MA150 (MICROTEC MA150) 은 1-99 웨이퍼 마스크에서 웨이퍼의 정확하고 반복 가능한 정렬 및 균일 한 노출을 제공하는 안전하고 신뢰할 수있는 진공 밀봉 흔들림이없는 챔버를 갖춘 완전 자동화 된 사진 리토 그래피 장비입니다. 이 시스템은 또한 저전력 기계식 서브 시스템을 갖추고 있으며, 진동이 발생하기 쉬운 환경에서도 정확한 작동을 가능하게합니다. KARL SUSS MA 150은 24 비트 나노 미터 스테이지 해상도와 내장 지능형 프로세스 제어 장치 (Intelligent Process Control Unit) 를 갖추고 있으며, 밴딩 또는 기타 이미지 불완전성이없는 안정적이고 정확한 노출 제어를 가능하게합니다. 또한, 이 장치는 초점 길이가 높은 작은 영역을 측정 할 수있는 민감한 광학 모듈 (optical module) 을 특징으로하며, 이를 통해 마스크와 웨이퍼를 정확하게 포지셔닝할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC MA150 은 또한 이동식 (removable) 스테이지로, 사용자가 원하는 사양에 따라 쉽게 시스템을 조정할 수 있습니다. 이 장치는 습식 에치, 포토 esist 개발 및 치료, 진공 스퍼터링 및 열 처리와 같은 다양한 기술을 허용합니다. 이 도구를 사용하여 Batch Chamber 기술을 사용하여 두꺼운 웨이퍼를 처리 할 수도 있습니다. 자산은 최대 1.5 nm 두께의 필름을 제공하고 최대 1.7 nm 라인 너비를 마스크 할 수 있습니다. 또한이 모델은 즉석 레티클 (reticle) 을 가능하게하여 photolithography 프로세스 동안 디자인 변경을 자유롭게 할 수 있습니다. MA150은 또한 photolithography 프로세스 프로그래밍을위한 포괄적 인 레시피 라이브러리를 지원합니다. 이 장비는 또한 통합 교정 모니터로 자동화된 교정을 위한 유연한 옵션을 제공하여 부드럽고 정확한 처리 (compinate processing) 를 보장합니다. 또한, MA 150은 MICROTEC 제품 라인의 다른 시스템과 호환되며, 한 시스템에서 다른 시스템으로 한 번의 클릭으로 레시피를 전송하여 효율적이고 유연한 생산 솔루션을 제공합니다.