판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #9248592

KARL SUSS/MICROTEC MA-150은 마이크로 일렉트로닉스 산업 (microelectronics industry) 의 기판에있는 재료의 광석기 학적 패턴화를 목적으로 사용되는 고정밀 마스크 정렬 자입니다. 장비 설계는 기판에 대한 광선 민감성 (photoresist) 템플릿의 광 정렬 (optical alignment) 원리를 기반으로합니다. MICROTEC MA150 시스템 내에서는 두 개의 독립적 인 단계가 사용됩니다. 정렬 단계 (alignment stage) 는 연산자가 기판을 정확하게 정렬하고 photomask를 자신에게 정렬할 수 있도록 하는 방식으로 작동합니다. 이것은 기질과 photomask x, y 및 z 축을 정확하게 이동할 수있는 한 쌍의 Heidenhains를 통해 달성됩니다. 이 장치의 설계는 센서 (sensor) 및 극정밀한 수동 조정 (manual adjustment) 을 활용하여 기판의 최종 정렬 및 위치를 조정합니다. 이렇게 하면 photomask를 기판에 정렬할 때 연산자가 sub-micron 정밀도를 얻을 수 있습니다. 이 기계는 또한 정렬 프로세스를 돕는 통합 웨이퍼 정렬 레이저 (wafer alignment laser) 를 포함합니다. 이 "레이저 '는" 레이저' 가 정확 한 정렬 을 위해 기판 을 신속 히 찾아내어 국산화 할 수 있게 해 준다. 또한, 이 도구는 높은 정확도와 최대 정렬 반복성 (Alignment Repeatability) 으로 인해 저용량 (Low and High Volume) 생산 실행과 대용량 (High Volume) 실행에 사용될 수 있습니다. 높은 포토 마스크 반복성을 보장하기 위해 KARL SUSS MA 150은 산업 등급 레이저를 구현합니다. 이 "레이저 '는" 포토마스크' 에 1 "미크론 '미만 의 반복 가능 한 선 변위 를 생성 할 수 있다. 이를 통해 자산은 대형 기판 웨이퍼에서도 높은 정밀도를 달성 할 수 있습니다. 마이크로텍 MA-150 (MICROTEC MA-150) 모델은 광범위한 포토리스 스트 (photoresist) 재료를 수용하여 다양한 웨이퍼를 크기와 두께로 처리할 수있는 유연성을 제공합니다. 이 장비는 또한 통합 냉각 옵션 (integrated cooling option) 을 갖추고 있으며, 마스크 정렬기를 전체 기판 전체에 균일 하게 노출 할 수 있습니다. 마지막으로, MA 150 시스템에는 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있는 고급 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 이 소프트웨어는 노출 용량 (exposure dose) 과 노출 시간 (exposure time) 을 제어하는 데 사용될 수 있으며, 멀티 레이어 패턴화와 같은 복잡한 프로세스가 훨씬 간단합니다. 또한, 이 장치는 고정밀 프로세스를 위해 저항층 (resist layer) 의 두께를 제어하는 기능을 제공합니다.