판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 150 M/BSA #9268269
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ID: 9268269
웨이퍼 크기: 4"-6"
빈티지: 1996
Mask aligner
UV 400 Exposure optics
Light intensity sensor: 320/405 nm
W-100 / W-150 Mask holder
Topside microscope:
Type: DVM 6
Objectives: NPL 5x / L 25x
Bottom side microscope:
Magnifications: 110 / 330
Resolution: 2.4 µm
Proximity, 4"
Ball diameter: 2000 µm, 1998 µm, 1998 µm
Exposure illumination:
Area, 6"
Lamp: 1000 Watt
Position:
Fly eye: 5 mm
Condenser: 38 mm
Lens plate 1: 69 mm
Lens plate 2: 90 mm
1996 vintage.
MICROTEC MA 150 M/BSA는 엔지니어링 된 미세 구조 제조에 사용되는 마스크 정렬 자 (MA) 입니다. 이 첨단 (advanced) 기술은 박막 마스크 패턴을 매우 높은 정밀도로 반도체 웨이퍼의 장치 표면에 맞추는 데 사용됩니다. MA 150 (MA 150) 은 고급 기능으로 설계되어 매우 뛰어난 해상도로 고품질, 신뢰성 있는 제품을 생산할 수 있습니다. MA 150은 특허를받은 이진 광학 장비를 사용하여 2 µm (fine) 의 기능으로 마스크를 정렬합니다. 마스크는 정확도 1 äm로 임의의 방향으로 정렬 할 수 있습니다. 마스크는 진공 상태이며 반자동 정밀도 (semi-automated precision stage) 로 쉽게 정렬됩니다. 이 시스템에는 자동 급지대 (automated feeder) 도 포함되어 있어 정렬 단계에 초당 최대 2개의 웨이퍼를 공급할 수 있습니다. KARL SUSS MA 150은 photomask 정렬, 노출, 개발, 청소 및 후처리 단계와 같은 사진 분석 프로세스에 사용할 수 있습니다. 0.45 이상의 숫자 조리개가있는 고해상도 최적화 된 이진 광 장치를 사용합니다. 각 노출 전에 두 방향으로 설치된 변위 측정 센서 (displacement measuring sensor) 를 사용하면 위치 정확도가 향상됩니다. MA 150에는 통합 다이렉트 뷰 현미경도 장착되어 있습니다. 이를 통해 연산자는 응용 프로그램 표면의 패턴을 시각화할 수 있고, 정렬 정확도 (Alignment Accuracy) 를 볼 수 있습니다. 이 기능은 이미지를 왜곡하지 않고 볼 수 있도록 하는 고급 광학 디자인 (Advanced Optics Design) 으로 가능합니다. KARL SUSS/MICROTEC MA 150 M/BSA는 고품질 미세 구조의 생산을 보장하는 신뢰할 수 있고 정확한 사진 해설용 솔루션입니다. 기계의 고급 기능과 설계를 통해 위치 정확도 (positional accurity) 가 개선된 마스크 정렬이 가능하며, 직접 보기 (direct view) 현미경은 제어 및 모니터링 기능이 추가되었습니다. 이를 통해 MA 150 M/BSA는 뛰어난 반복성을 갖춘 신뢰성 있는 제품을 생산하려는 사람들에게 이상적인 선택입니다.
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