판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 12 #293808783
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KARL SUSS/MICROTEC MA 12는 고해상도로 패턴 구조를 전달하는 데 사용되는 마스크 정렬 자입니다. 정확한 정렬을 위해 높은 진공 척 (vacuum chuck) 으로 25mm ~ 200mm 웨이퍼를 지원할 수있는 자동 웨이퍼 처리 장비가 특징입니다. 직관적 인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 로 쉽게 작동하는 프로그래밍 가능한 노출 도구입니다. 파장 조정성 범위는 근적외선 (NIR) 에서 자외선 (UV) 광원까지 광범위한 파장을 포착 할 수 있습니다. MICROTEC MA 12는 X, Y 및 Theta 축을 사용하여 정확한 위치 제어를 통해 웨이퍼 위의 패턴을 정확하게 정렬합니다. 수치 조리개가 0.28 인 고급 투영 광학 시스템 (Advanced Projection Optics System) 과 최적의 이미지 품질을 보장하는 최적화된 이미징 장치를 갖추고 있습니다. 또한, 스캐닝 (scanned) 필드에 대한 최상의 노출을 자동으로 선택하고 조정 가능한 초점 깊이를 위해 통합 초점 튜닝 머신 (focus-tuning machine) 을 제공합니다. KARL SUSS MA 12의 주요 고급 기능은 용량 의존적 부분 노출 제어입니다. 이 기능은 패턴의 서브 미크론 (sub-micron) 해상도를 가능하게 하며 다중 레이어의 고정밀도 처리에 사용됩니다. 또한 다양한 응용 프로그램에 프로그래밍 가능한 레이어 두께 설정 및 레시피 기반 자율 사용을 제공합니다. 이 기능은 리소그래피 (lithography) 및 나노 각인 (nano-imprinting) 과 같은 응용 프로그램에 대해 정밀도 및 정밀도 구조를 안정적으로 정의 할 수 있도록 보장합니다. 다른 기능으로는 자동 셔틀 도구를 사용한 반복 가능한 마스크 처리, 망원경 셔터 및 프로그래밍 가능 필름 홀더, 통합 진공 자산 등이 있습니다. 또한 두 개의 가열 시스템이 있습니다. 하나는 베이스 온도 (base temperature) 이고 다른 하나는 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 의 온도 조절입니다. 또한 소프트웨어의 스캐너 정렬 (scanner alignment) 옵션을 사용하여 정렬 정밀도를 세밀하게 조정할 수 있습니다. MA 12는 다양한 유형의 photolithographic 프로세스에 사용할 수있는 향상된 마스크 정렬 자입니다. 뛰어난 성능, 높은 정확성, 반복성을 갖추고 있어 복잡하고 복잡한 정밀 프로세스에 적합합니다. 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 와 여러 자동 (Automated) 기능을 통해 간편하게 사용 및 유지 관리할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC MA 12의 유연성과 정확성은 산업, 연구 및 학술 응용을위한 귀중한 도구입니다.
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