판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9375086

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E는 반도체 산업의 photolithography 프로세스를 위해 설계된 수동 마스크 정렬 자입니다. 이 장치 는 광전도 공정 중 에 반도체 "웨이퍼 '위 에" 마스크' 를 놓을 때 최대 의 정확도 를 허용 한다. MICROTEC MA100E의 중심에는 4 축 스테퍼 모터 스테이지가 있습니다. 이 모터 스테이지는 X, Y 및 Z 축의 정확한 동작과 theta (-) 축 회전을 제공합니다. 따라서 마스크를 웨이퍼에 배치할 때 최대 정확도가 보장됩니다. 이것 은 "마스크 '의 정확 한 배치 가 중요 한 광전도 과정 에 필수적 이다. KARL SUSS MA 100 E 는 또한 "웨이퍼 '표면 에" 마스크' 를 정확 하게 정렬 할 수 있다. 이 장치는 광학 및 기계적 정렬 장치 (optical and mechanical alignment mechanism) 세트를 사용하여 0.0005 인치 이상의 해상도로 마스크를 웨이퍼 위에 정확하게 배치할 수 있습니다. 이를 통해 효율적이고 신뢰할 수있는 포토 리토 그래피 처리가 가능합니다. KARL SUSS/MICROTEC MA 100 E에는 제어 패널도 포함되어 있으며, 사용자는 온도, 노출 시간, 초점 등의 매개 변수를 설정하고 구성할 수 있습니다. 이러한 매개변수를 세밀하게 조정하여 주어진 photolithography 프로세스에 대한 최상의 결과를 얻을 수 있습니다. 그 에 더하여, 그 장치 는 진공 "시스템 '을 갖추고 있는데, 이것 은" 마스크' 가 "웨이퍼 '를 가로질러 움직 이는 동안 굳게 고정 되어 있도록 도와 준다. KARL SUSS MA 100E는 photolithography 프로세스를위한 신뢰할 수 있고 정확한 수동 마스크 정렬 자입니다. 4 축 스테퍼 모터 스테이지는 정확한 동작을 제공하며, 광학 및 기계적 정렬 메커니즘은 마스크가 0.0005 인치 (0.0005 인치) 이상의 해상도로 올바르게 배치되도록 합니다. 또한, 내부 제어 시스템 (Internal Control System) 은 photolithography 매개변수의 정확한 튜닝을 허용하며, 통합 진공 시스템 (Integrated Vacuum System) 은 웨이퍼를 가로 질러 이동하면서 마스크를 단단히 고정시킵니다. 이러한 기능을 함께 사용하면 안정적이고 정확한 사진 해설을 처리할 수 있습니다.