판매용 중고 KARL SUSS 260MS022 #9252212

KARL SUSS 260MS022는 사진 해설에 사용되는 완전 자동화 된 최첨단 마스크 알리너 (Mask Aligner) 로 집적 회로 및 기타 마이크로 장치로 패턴을 정확하게 에칭합니다. 정렬 (aligner) 은 photomask에서 생성된 패턴을 추적하도록 설계된 컴포넌트의 조합으로 만들어집니다. 이 조합에는 마이크로 스테퍼 모터, 컨트롤 유닛, 스테퍼 번호 인코더, 유리 레티클 스테이지, 방출 노즐, 마스크 정렬 시스템 및 표본 척이 포함됩니다. 이러한 모든 컴포넌트를 결합하여 마스크 정렬 (Mask Aligner) 은 결과 에치 결과가 일관성을 보장하기 위해 높은 정밀도와 정확도를 제공합니다. Mask Aligner의 마이크로 스테퍼 모터는 정밀 회전을 수행하기 위해 작동합니다. 접촉 없이 작동하여 동작 제어가 향상됩니다. 전동기는 소형과 로우 프로파일 (low profile) 설계로 장치에서 발생하는 열 부하를 낮게 유지하므로 에칭 (etched) 패턴의 최고 해상도를 보장합니다. 스텝 모터의 속도를 제어하도록 만들어진 제어 장치 (Control Unit) 는 연산자가 모터의 속도를 조정하고, 따라서 에치 패턴 (etch pattern) 을 조정할 수 있습니다. 이를 통해 연산자는 원하는 에치 (etch) 패턴을 정확하게 만들어 사용자 정의 제품을 만들 수 있습니다. 스테퍼 번호 인코더 (Stepper Number Encoder) 를 사용하면 정렬 시스템이 패턴 세트에 따라 마스크를 이동하는 데 걸리는 단계 수를 선택할 수 있습니다. 이렇게 하면 정렬 시스템 (Alignment System) 의 높이를 조정할 때 연산자의 제어 및 정확도가 높아집니다. 즉, 스테이지를 올바르게 이동하는 데 필요한 단계 번호 (step number) 를 선택할 수 있습니다. 유리 레티클 (glass reticle) 단계에서는 웨이퍼의 정확한 위치에 포토 마스크 (photomask) 를 배치할 때 정밀도를 허용하며 마스크의 칩 레이아웃 영역을 식별하는 데 사용됩니다. 마스크 알리너 (MaskAligner) 의 방출 노즐은 액체 재료를 포토 마스크에 뿌려 정확한 에치 패턴을 보장합니다. 마지막으로 표본 척이 있습니다. 이 기능은 에칭 프로세스가 시작될 때 "웨이퍼 '를 안전하고 정확하게 고정하는 데 사용됩니다. 이렇게 하면 마스크의 전송된 패턴에 대한 웨이퍼 (wafer) 의 패턴 정렬이 유지됩니다. 이 모든 구성 요소는 정교하면서도 효율적인 마스크 정렬 (Mask Aligner) 을 제공하기 위해 함께 작동하며, 이 마스크 정렬 (Mask Aligner) 은 비싸고 섬세한 포토 마스크 (photomask) 의 낭비를 최소화하면서 최고 해상도의 패턴을 만들 수 있습니다. 260MS022는 마이크로 전자 장치 생산에 이상적인 마스크 정렬 자입니다.