판매용 중고 JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200 #9107350

일본 과학 공학 (JAPAN SCIENCE ENGINEERING) MA-4200은 사진 해설에 사용되며 반도체 및 광전자 장치를위한 고정밀 패턴을 생산할 수 있습니다. 이 마스크 정렬기 (mask aligner) 는 정확도가 높은 정밀도 정렬을 제공하며, 웨이퍼 처리량이 높아 제조 프로세스를 빠르고 효율적으로 완료할 수 있습니다. MA-4200 은 고속 자동 패턴 인식 (Automatic Pattern Recognition) 장비로, 원하는 회로 패턴과 필요한 마스크를 정확하게 정렬하고 일치시킵니다. 섹터 스플리터 미러 (Sector Splitter Mirror) 를 사용하여 마스크와 패턴을 정확하게 정렬하고 반복 가능한 결과를 생성합니다. 패턴 인식 시스템은 또한 웨이퍼 워 페이지 및 기타 환경 영향을 보상합니다. 또한 JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200에는 고해상도 마스크 프로젝션 장치가 장착되어 있습니다. 이 "렌즈 '와 거울 의 기계 는" 마스크' 를 4 차원 으로 정확 하고 정확 하게 "웨이퍼 '에 투사 하여 고급 반도체 회로 패턴 을 형성 할 수 있게 한다. 이 도구는 또한 고속 노출을 제공하며, 분당 최대 10 개의 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. MA-4200 은 또한 고급 프로세스 제어 에셋 (Advanced Process Control Asset) 과 같은 기능을 제공하므로 마스크 및 웨이퍼 (Wafer) 의 정렬을 정확도로 모니터링하고 제어할 수 있으며, 즉석에서 프로세스를 수정할 수 있습니다. 이 모델은 최적의 정렬 수율과 향상된 프로세스 일관성을 제공합니다. 이 마스크 정렬기에는 컴퓨터 제어 포커스 조정기 (computer-controlled focus adjuster) 도 포함되어 있는데, 이 포커스는 전체 노출 과정에서 포커스를 자동으로 유지하는 데 사용됩니다. 이렇게 하면 패턴이 웨이퍼에 정확하게 투영됩니다. 일본 과학 공학 (JAPAN SCIENCE ENGINEERING) MA-4200은 학습하기 쉬운 인터페이스 스레드를 사용하여 프로그래밍되며, 사용자는 최소한의 노력으로 장치를 사용할 수 있습니다. 전반적으로, MA-4200은 효율적이고 안정적인 마스크 정렬기로, 정밀 정렬과 높은 처리량을 제공합니다. 기본 스크리브 레이아웃 (basic scribe layout) 에서 최첨단 3D 사진 해설에 이르는 응용 분야에 이상적이며 다양한 사진 해설법 (photolithography needs) 에 대한 포괄적 인 솔루션을 제공합니다.